特許
J-GLOBAL ID:200903078860595723

気相成長用サセプタ装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 長谷川 芳樹 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-126100
公開番号(公開出願番号):特開平7-011446
出願日: 1993年05月27日
公開日(公表日): 1995年01月13日
要約:
【要約】【目的】 本発明は、プラズマ耐性に優れたサセプタ板を有するサセプタ装置を提供することを目的とする。【構成】 ウェハ上に薄膜を形成するための気相成長装置に用いられるサセプタ装置において、ウェハを配置するためのサセプタ板11は窒化アルミニウムからなることを特徴とする。また、サセプタ坂11の底面に設けられた高周波用電極である金属電極板13と、金属電極板13が覆われるようにサセプタ板11に取り付けられたセラミック材料からなる電極カバー14とを備えていてもよい。
請求項(抜粋):
ウェハ上に薄膜を形成するための気相成長装置に用いられるサセプタ装置において、前記ウェハを配置するためのサセプタ板は、窒化アルミニウムからなることを特徴とする気相成長用サセプタ装置。
IPC (3件):
C23C 16/44 ,  C23C 16/50 ,  H01L 21/205
引用特許:
審査官引用 (2件)
  • 特開昭63-140085
  • セラミツクスヒーター
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平3-253598   出願人:日本碍子株式会社

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