シロキサン系薄膜の形成方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：池内寛幸 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-189342
公開番号（公開出願番号）：特開平9-039148
出願日： 1995年07月25日
公開日（公表日）： 1997年02月10日
要約：

【要約】【課題】膜厚を薄く制御することが可能で、極めて簡単な方法で安価に室温でも効率よくピンホールのない密着性の良いシロキサン系薄膜の形成方法を提供する。【解決手段】ピリジン5重量%、(トリデカフルオロ-1、1、2、2-テトラヒドロオクチル)トリエトキシシラン2重量%のヘキサデカン溶液に、洗浄したスライドガラス(ほう珪酸ガラス)基板を室温で1時間浸漬させ、その後クロロホルムの入った容器中に基板を浸漬し、クロロホルムを攪拌して10分間のクロロホルム洗浄を行い、更に流水で10分間の水洗を行うことにより、水に対する接触角115 ゚、サラダ油に対する接触角80 ゚の撥水撥油性シロキサン系薄膜が基板上に形成される。

請求項（抜粋）：