特許
J-GLOBAL ID：200903078882481110

感光性ポリアミド及び組成物

発明者：
西川 雅人

西川 雅人 について

, 
佐々木 隆弘

佐々木 隆弘 について


出願人/特許権者：
クラリアント ジャパン 株式会社

クラリアント ジャパン 株式会社 について

, 
旭化成株式会社

旭化成株式会社 について


代理人 (1件)： 鐘尾 宏紀 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-213022
公開番号（公開出願番号）：特開2003-026796
出願日： 2001年07月13日
公開日（公表日）： 2003年01月29日
要約：
【要約】【課題】 高感度で高残膜率、高コントラストのパターンを得ることができ、同時に微細パターンの解像性およびパターン形状に優れさらには安定性に優れた感光性樹脂組成物を提供する。【解決手段】 下記一般式で示される感光性ポリアミドを溶剤に溶解して感光性樹脂組成物とする。(式中、X1は4価の有機基。X2、X3は2価の有機基。a+b=100モル%、a=60.0〜100モル%、b=0〜40.0モル%。Dは1,2-ナフトキノンジアジド-4(または5)-スルホン酸エステル残基または水素原子で、1,2-ナフトキノンジアジド-4(または5)-スルホン酸エステル残基が全Dの1〜50%。Z:2価の有機基。)
請求項（抜粋）：
下記一般式(I)で示される感光性ポリアミド。【化1】(式中、X1は4価の有機基、X2、X3は同じであっても異なっていてもよい2価の有機基である。aおよびbはモル分率を表し、a+b=100モル%であり、a=60.0〜100モル%、b=0〜40.0モル%である。Dは1,2-ナフトキノンジアジド-4-スルホン酸エステル残基、1,2-ナフトキノンジアジド-5-スルホン酸エステル残基または水素原子を表し、全Dの1〜50%が1,2-ナフトキノンジアジド-4-スルホン酸エステル残基あるいは1,2-ナフトキノンジアジド-5-スルホン酸エステル残基であり、残りが水素原子である。Zは2価の有機基である。)
IPC (3件)：
C08G 69/26 ,  G03F 7/037 ,  H01L 21/027
FI (3件)：
C08G 69/26 ,  G03F 7/037 ,  H01L 21/30 502 R
Fターム (37件)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025BE02 ,  2H025CC03 ,  2H025FA03 ,  2H025FA17 ,  2H025FA29 ,  4J001DA01 ,  4J001DB05 ,  4J001DC14 ,  4J001DC16 ,  4J001DD13 ,  4J001DD17 ,  4J001EB35 ,  4J001EB36 ,  4J001EB37 ,  4J001EB46 ,  4J001EB55 ,  4J001EB56 ,  4J001EB57 ,  4J001EB58 ,  4J001EB59 ,  4J001EB60 ,  4J001EC44 ,  4J001EC65 ,  4J001EC66 ,  4J001EC67 ,  4J001EC68 ,  4J001EC70 ,  4J001FB03 ,  4J001FB05 ,  4J001FC03 ,  4J001FC05 ,  4J001GA13 ,  4J001JA20
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (5件)
  • 親水性ポリアミド系樹脂の製造法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-080058   出願人：日立化成工業株式会社
  • 特開昭61-085438
  • 特開昭61-085438
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