特許
J-GLOBAL ID：200903078889439305

パターン形成基材およびパターン形成方法

発明者：
本多 充

本多 充 について

, 
中林 敬哉

中林 敬哉 について

, 
藤井 暁義

藤井 暁義 について


出願人/特許権者：
シャープ株式会社

シャープ株式会社 について


代理人 (4件)： 原 謙三 ,  木島 隆一 ,  圓谷 徹 ,  金子 一郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-255610
公開番号（公開出願番号）：特開2004-089878
出願日： 2002年08月30日
公開日（公表日）： 2004年03月25日
要約：
【課題】吐出する液滴数を減らすことにより、タクトタイムの増加やインクジェットの寿命低下を防止できるパターン形成方法を提供する。【解決手段】液滴8が対象面上に接触したときの接触角が第1接触角である撥水領域7と、この撥水領域7と隣接し、上記第1接触角よりも小さな第2接触角であり、形成されるべきパターンとなる親水ライン6とを、基板11上に形成し、以下の(1)式を満たすように、上記撥水領域7と親水ライン6とに跨がるように液滴を付着させる。D≦L×{1+2(cosθ2-cosθ1)}・・・・・・(1)ここで、D:液滴径、L:パターン幅、θ1:第1接触角、θ2:第2接触角である。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
液滴を対象面上に吐出することで所定のパターンが形成されるパターン形成基材において、 上記対象面上に、上記液滴が対象面上に接触したときの接触角が第1接触角の第1領域と、この第1領域と隣接し、上記第1接触角よりも小さな第2接触角の第2領域とが、該第1領域と第2領域とに跨がるように液滴を付着させるときに、以下の(1)式を満たすように形成されていることを特徴とするパターン形成基材。 D≦L×{1+2(cosθ2-cosθ1)} ・・・・・・(1) ここで、D:液滴径 L:パターン幅 θ1:第1接触角 θ2:第2接触角 である。
IPC (4件)：
B05D1/26 ,  B41J2/01 ,  H01L21/288 ,  H01L29/786
FI (4件)：
B05D1/26 Z ,  H01L21/288 Z ,  B41J3/04 101Z ,  H01L29/78 612C
Fターム (42件)：
2C056FA02 ,  2C056FA15 ,  2C056FB05 ,  2H092JA24 ,  2H092JB22 ,  2H092JB31 ,  2H092MA10 ,  2H092MA16 ,  2H092MA22 ,  2H092NA25 ,  2H092PA01 ,  4D075AC08 ,  4D075AC09 ,  4D075AC88 ,  4D075AC93 ,  4D075AE22 ,  4D075CA22 ,  4D075CA36 ,  4D075CA37 ,  4D075CB38 ,  4D075DA06 ,  4D075DB13 ,  4D075DC19 ,  4D075DC24 ,  4D075EA10 ,  4D075EB16 ,  4D075EB43 ,  4D075EC10 ,  4D075EC60 ,  4M104AA09 ,  4M104BB08 ,  4M104CC05 ,  4M104DD51 ,  5C027AA02 ,  5F110AA16 ,  5F110BB01 ,  5F110DD02 ,  5F110EE02 ,  5F110EE37 ,  5F110EE42 ,  5F110EE47 ,  5F110QQ06
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (2件)

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