特許

J-GLOBAL ID：200903078892773119

発光装置、及び発光装置の製造方法

発明者： 小林 英和
出願人/特許権者： セイコーエプソン株式会社
代理人 (3件)： 上柳 雅誉 ,  須澤 修 ,  宮坂 一彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-109877
公開番号（公開出願番号）：特開2009-259731
出願日： 2008年04月21日
公開日（公表日）： 2009年11月05日
要約：

【課題】有機EL画素毎に異なる層厚の透明層を、フォトリソグラフィー工程を複数回繰り返すことなく形成する。【解決手段】基板10上に発光領域19に光反射層21を形成する第2の工程と、光反射層21上に透明樹脂を含む液状材料Cを供給する第3の工程と、液状材料Cを硬化させて、光反射層21上に透明樹脂層79を形成する第4の工程と、透明樹脂層79が形成された基板10上に透明導電層65を形成する第5の工程と、透明導電層65をパターニングして、発光領域19に第1の電極25を形成する第6の工程と、第1の電極25上に発光機能層26を形成する第7の工程と、発光機能層26上に半反射性を有する第2の電極27を形成する第8の工程と、を含むことを特徴とする発光装置1の製造方法。【選択図】図10

請求項（抜粋）：

基板上に規則的に配置された複数の発光領域の各々に、前記基板側から順に第1の電極と発光機能層と第2の電極とが積層された構造を有する発光画素を備える発光装置の製造方法であって、 前記発光領域に光反射層又は半反射層を形成する第2の工程と、 前記光反射層上又は前記半反射層上に透明樹脂を含む液状材料を供給する第3の工程と、 前記液状材料を硬化させて、前記光反射層上又は前記半反射層上に透明樹脂層を形成する第4の工程と、 前記透明樹脂層が形成された前記基板上に透明導電層を形成する第5の工程と、 前記透明導電層をパターニングして、前記発光領域に前記第1の電極を形成する第6の工程と、 前記第1の電極上に発光機能層を形成する第7の工程と、 前記発光機能層上に光反射性又は半反射性を有する前記第2の電極を形成する第8の工程と、 を含むことを特徴とする発光装置の製造方法。

IPC (6件)：

H05B 33/10 ,  H01L 51/50 ,  H05B 33/24 ,  H05B 33/12 ,  H05B 33/28 ,  H05B 33/22

FI (7件)：

H05B33/10 ,  H05B33/14 A ,  H05B33/24 ,  H05B33/12 E ,  H05B33/12 B ,  H05B33/28 ,  H05B33/22 Z

Fターム (13件)：

3K107AA01 ,  3K107BB01 ,  3K107CC45 ,  3K107DD10 ,  3K107DD90 ,  3K107DD96 ,  3K107EE22 ,  3K107EE33 ,  3K107FF06 ,  3K107FF13 ,  3K107FF15 ,  3K107GG08 ,  3K107GG24

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 特許第2797883号公報
  
• 有機エレクトロルミネッセンス表示装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-279472   出願人：三洋電機株式会社