特許

J-GLOBAL ID：200903078906496806

偏光層形成基板、偏光層の製造方法、液晶表示装置、液晶表示装置の製造方法、電子機器

発明者： 倉澤 隼人 ,  土屋 仁
出願人/特許権者： セイコーエプソン株式会社
代理人 (3件)： 渡邊 隆 ,  志賀 正武 ,  実広 信哉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-212760
公開番号（公開出願番号）：特開2004-054031
出願日： 2002年07月22日
公開日（公表日）： 2004年02月19日
要約：

【課題】簡便にパターン化した構成を得ることが可能な偏光層を提供する。【解決手段】偏光層1は、ガラス基板等の基材5上に形成され、その面内において、水溶性且つ偏光性を示す二色性染料を含んで構成された水溶性領域20と、該二色性染料を不溶化した不溶性偏光成分を含んで構成された非水溶性領域10とを、所定のパターンで含んでおり、非水溶性領域10は個々に矩形状にパターン形成され、水溶性領域20は非水溶性領域10の境界領域としてパターン形成されている。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

所定基材上に偏光層が形成された偏光層形成基板であって、前記偏光層の面内において、水溶性且つ偏光性を示す水溶性偏光成分を含んで構成される水溶性領域と、前記水溶性偏光成分を不溶化した不溶性偏光成分を含んで構成される非水溶性領域とが、所定のパターンで基板上に形成されていることを特徴とする偏光層形成基板。

IPC (2件)：

G02B5/30 ,  G02F1/1335

FI (3件)：

G02B5/30 ,  G02F1/1335 510 ,  G02F1/1335 520

Fターム (19件)：

2H049BA02 ,  2H049BA26 ,  2H049BB03 ,  2H049BC08 ,  2H049BC22 ,  2H091FA02Y ,  2H091FA07X ,  2H091FA07Y ,  2H091FA07Z ,  2H091FA11X ,  2H091FA14Y ,  2H091FA31X ,  2H091FA41Z ,  2H091GA01 ,  2H091GA02 ,  2H091GA03 ,  2H091GA06 ,  2H091GA09 ,  2H091LA30