特許
J-GLOBAL ID:200903078916898368

X線回折装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 池浦 敏明 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平3-273419
公開番号(公開出願番号):特開平5-087748
出願日: 1991年09月25日
公開日(公表日): 1993年04月06日
要約:
【要約】【目的】 4軸型自動X線回折装置において基板上の薄膜単結晶層からの回折X線強度を容易に測定できるようにする。【構成】 可視平行光線を発生する光源1を設けると共に、試料2の前後に十文字のスリットの組S1、S2とスリットの組S1’、S2’を設ける。スリットの組S1、S2とスリットの組S1’、S2’は同形等大であり、スリットS1、S1’はω軸と平行に、S2(S2’)はS1(S1’)と入射光線とに垂直に設けられる。スリットS1、S2の交点は入射X線の光路と一致し、スリットS1’、S2’の交点は検出器3の中心と一致するよう各スリットを配置される。可視平行光線によるスリットS1、S2の像とスリットS1’、S2’とを比べることにより、一度に所望のセッティングが可能となる。
請求項(抜粋):
X線を測定試料に照射し、その回折光に基づき測定試料の構造評価を行うX線回折装置において、可視平行光線を得る手段と、その可視平行光線を通過させる同形等大の少なくとも2つ以上のスリットもしくはスリットの組を備え、これらスリットもしくはスリットの組が測定試料の前後に少なくとも1つずつ配置されていることを特徴とするX線回折装置。

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