特許

J-GLOBAL ID：200903078919453030

レーザ干渉計測長器、露光装置、デバイス製造方法、半導体製造工場および露光装置の保守方法

発明者： 山崎 俊洋
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 伊東 哲也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-249951
公開番号（公開出願番号）：特開2003-065712
出願日： 2001年08月21日
公開日（公表日）： 2003年03月05日
要約：

【要約】【課題】 レーザ干渉計測長器で高い波長補正精度を実現する。【解決手段】 レーザ干渉計測長器において、定盤27に固定された第1干渉計4と移動体2上に配置された第1反射ミラー3との間に計測ビーム5を通して移動体の位置を計測する位置計測手段と、定盤27に互いに距離をあけて固定された第2干渉計12,22と第2反射ミラー11,21との間を通る補正ビーム13,23が、計測ビーム5の通過する周辺空間を通るように配置し、計測ビーム5が受ける環境変化を検出する補正量検出手段と、補正量検出手段の検出結果に基づき位置計測手段の計測結果を補正した移動体位置を得る補正手段とを設ける。

請求項（抜粋）：

定盤に固定された第1干渉計と移動体上に配置された第1反射ミラーとの間に計測ビームを通して前記移動体の位置を計測する位置計測手段と、前記定盤に互いに距離をあけて固定された第2干渉計と第2反射ミラーとの間を通る補正ビームが、前記計測ビームの通過する周辺空間を通るように配置し、前記計測ビームが受ける環境変化を検出する補正量検出手段と、前記補正量検出手段の検出結果に基づき前記位置計測手段の計測結果を補正した移動体位置を得る補正手段とを有することを特徴とするレーザ干渉計測長器。

IPC (5件)：

G01B 11/00 ,  G01B 9/02 ,  G03F 7/20 521 ,  G05D 3/12 ,  H01L 21/027

FI (7件)：

G01B 11/00 G ,  G01B 9/02 ,  G03F 7/20 521 ,  G05D 3/12 H ,  G05D 3/12 W ,  H01L 21/30 503 B ,  H01L 21/30 502 G

Fターム (47件)：

2F064AA01 ,  2F064BB01 ,  2F064CC04 ,  2F064FF01 ,  2F064GG12 ,  2F064GG13 ,  2F064GG22 ,  2F064KK01 ,  2F065AA02 ,  2F065AA06 ,  2F065AA09 ,  2F065AA20 ,  2F065CC17 ,  2F065DD11 ,  2F065EE01 ,  2F065FF52 ,  2F065FF55 ,  2F065FF61 ,  2F065FF67 ,  2F065GG04 ,  2F065HH04 ,  2F065JJ01 ,  2F065JJ05 ,  2F065JJ15 ,  2F065LL02 ,  2F065LL12 ,  2F065LL22 ,  2F065LL37 ,  2F065PP12 ,  2F065QQ21 ,  2F065QQ25 ,  2F065QQ28 ,  2F065RR10 ,  2F065UU07 ,  5F046AA28 ,  5F046BA04 ,  5F046CC01 ,  5F046CC02 ,  5F046CC16 ,  5H303AA06 ,  5H303BB03 ,  5H303CC06 ,  5H303DD01 ,  5H303GG13 ,  5H303GG29 ,  5H303JJ08 ,  5H303JJ10