特許
J-GLOBAL ID:200903078927669530

ポリカーボネートの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 大谷 保
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-294775
公開番号(公開出願番号):特開平6-145330
出願日: 1992年11月04日
公開日(公表日): 1994年05月24日
要約:
【要約】【目的】 成形加工時や屋外使用時における紫外線吸収物質の揮散が抑制され、安定した耐候性を有するポリカーボネートの製造方法を開発すること。【構成】 一般式(I)【化1】(式中の各記号は明細書に定義した通りである。)で表されるベンゾトリアゾール誘導体を、原料モノマーのビスフェノール類に対して、0.1〜5.0重量%添加して重合するポリカーボネートの製造方法である。
請求項(抜粋):
界面重縮合法あるいはエステル交換法によるポリカーボネートの製造方法において、一般式(I)【化1】〔式中、Z1 〜Z7 はそれぞれ水素原子,ハロゲン原子,炭素数1〜5のアルキル基,炭素数6〜12のアリール基または水酸基を示し、Rは炭素数1〜5のアルキル基,炭素数6〜12のアリール基,炭素数7〜12のアラルキル基,アシル基,ベンゾトリアゾリル基または一般式(II)もしくは(II')【化2】(式中、Z8 〜Z12はそれぞれ水素原子,炭素数1〜5のアルキル基,炭素数6〜12のアリール基または水酸基を示し、Tは炭素数1〜15のアルキリデン基を示す。)で表される基を示す。但し、Z1 〜Z12の内1〜3個は水酸基である。〕で表されるベンゾトリアゾール誘導体を、原料モノマーのビスフェノール類に対して0.1〜5.0重量%添加して重合することを特徴とするポリカーボネートの製造方法。
IPC (4件):
C08G 64/20 NPT ,  C08G 64/20 NPU ,  C08G 64/12 NQA ,  C08G 64/14 NQA

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