特許
J-GLOBAL ID:200903078937872911

ウエハ研磨用パッド

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-108804
公開番号(公開出願番号):特開2000-301449
出願日: 1999年04月16日
公開日(公表日): 2000年10月31日
要約:
【要約】【課題】【解決手段】 ウエハ表面に研磨パッドを押圧し、ウエハチャック機構のスピンドル軸と研磨パッドのスピンドル軸を回転させることにより回転するウエハ面に回転する研磨パッドを摺擦させてウエハを研磨するのに用いられる研磨パッドにおいて、該研磨パッドのウエハ面を摺擦する研磨布は、アルミナ 70〜80重量%と酸化珪素 30〜20重量%の無機繊維を焼成して得たムライト結晶が12重量%以上含有するアルミナシリケ-ト鉱物組成を示す繊維径 3〜10μm、繊維長 3〜20cmの繊維を嵩密度 0.075〜0.13g/cm3の不織布とした布であることを特徴とする、ウエハ研磨用パッド。
請求項(抜粋):
ウエハ表面に研磨パッドを押圧し、ウエハチャック機構のスピンドル軸と研磨パッドのスピンドル軸を回転させることにより回転するウエハ面に回転する研磨パッドを摺擦させてウエハを研磨するのに用いられる研磨パッドにおいて、該研磨パッドのウエハ面を摺擦する研磨布は、アルミナ 70〜80重量%と酸化珪素 30〜20重量%の無機繊維を焼成して得たムライト結晶が12重量%以上含有するアルミナシリケ-ト鉱物組成を示す繊維径 3〜10μm、繊維長 3〜20cmの繊維を嵩密度 0.075〜0.13g/cm3の不織布とした布であることを特徴とする、ウエハ研磨用パッド。
IPC (4件):
B24B 37/00 ,  B24D 3/00 320 ,  B24D 11/00 ,  H01L 21/304 622
FI (4件):
B24B 37/00 C ,  B24D 3/00 320 Z ,  B24D 11/00 D ,  H01L 21/304 622 F
Fターム (11件):
3C058AA07 ,  3C058AA16 ,  3C058AB06 ,  3C058CB10 ,  3C058DA17 ,  3C063AA06 ,  3C063AB05 ,  3C063BB03 ,  3C063BB11 ,  3C063BE04 ,  3C063EE10

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