特許
J-GLOBAL ID:200903078946565045
投影光学系および該投影光学系を備えた露光装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
山口 孝雄
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-370947
公開番号(公開出願番号):特開2002-244035
出願日: 2001年12月05日
公開日(公表日): 2002年08月28日
要約:
【要約】【課題】 レンズ外径の大型化を抑えつつ、高い像側開口数を確保することのできる高解像の投影光学系。【解決手段】 0.75以上の像側開口数を有し、300nm以下の波長を有する所定の光に基づいて第1物体(3)の像を第2物体上に形成する投影光学系。第1物体側から順に、正の屈折力を有する第1レンズ群G1と、負の屈折力を有する第2レンズ群G2と、正の屈折力を有する第3レンズ群G3と、正の屈折力を有する第4レンズ群G4とを備えている。第4レンズ群G4の最も第2物体側の光学面と第2物体との間の光軸に沿った距離D(mm)は、0.1<D<5の条件を満足する。
請求項(抜粋):
0.75以上の像側開口数を有し、300nm以下の波長を有する所定の光に基づいて第1物体の像を第2物体上に形成する投影光学系において、第1物体側から順に、正の屈折力を有する第1レンズ群G1と、負の屈折力を有する第2レンズ群G2と、正の屈折力を有する第3レンズ群G3と、正の屈折力を有する第4レンズ群G4とを備え、前記第4レンズ群G4の最も第2物体側の光学面と前記第2物体との間の光軸に沿った距離D(mm)は、0.1<D<5 (1)の条件を満足することを特徴とする投影光学系。
IPC (5件):
G02B 13/24
, G02B 13/14
, G02B 13/18
, G03F 7/20 521
, H01L 21/027
FI (6件):
G02B 13/24
, G02B 13/14
, G02B 13/18
, G03F 7/20 521
, H01L 21/30 515 D
, H01L 21/30 516 F
Fターム (28件):
2H087KA21
, 2H087LA01
, 2H087NA02
, 2H087NA04
, 2H087PA15
, 2H087PA17
, 2H087PB20
, 2H087QA03
, 2H087QA06
, 2H087QA12
, 2H087QA14
, 2H087QA21
, 2H087QA25
, 2H087QA32
, 2H087QA41
, 2H087QA42
, 2H087QA45
, 2H087RA05
, 2H087RA12
, 2H087RA13
, 2H087RA42
, 2H087UA03
, 2H087UA04
, 2H087UA09
, 5F046BA04
, 5F046CB12
, 5F046CB25
, 5F046DA27
引用特許:
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