特許
J-GLOBAL ID：200903078955332460
走査型露光装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
日比谷 征彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-040376
公開番号（公開出願番号）：特開平7-302742
出願日： 1981年12月23日
公開日（公表日）： 1995年11月14日
要約：
【要約】【目的】 マスクとウエハーとを正確に整合する。【構成】 レーザ光源10から発しポリゴン鏡12によって走査され、分割プリズム35で分割されたレーザ光Lのそれぞれは、ハーフミラー14、対物レンズ15、標準マスク16を経由して台形ミラー31の一方の反射面31aに入射して、凹面ミラー32、凸面ミラー33、凹面ミラー32、台形ミラー31の他の反射面31bと反射を繰り返しながら進行し、標準ウエハー18に到達する。そして、標準マスク16と標準ウエハー18のアライメントマーク1、2の情報を含んだレーザ光Lは元の光路を戻り、ハーフミラー14により光電変換素子20に送出される。光電変換素子20で得られたアライメントマーク1、2の情報を基に、転写光学系に対する走査方向の傾きを求める。
請求項（抜粋）：
転写光学系に対してマスクとウエハーを走査することにより、前記転写光学系を介して前記マスクのパターンを前記ウエハー上に転写する走査型露光装置において、前記転写光学系に対する前記走査方向の傾きを検出し、該傾きを補正する位置合わせ手段を有することを特徴とする走査型露光装置。
IPC (2件)：
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