特許

J-GLOBAL ID：200903078988813375

窒素ガスの製造方法および製造装置

発明者： 福原 廣
出願人/特許権者： 株式会社フクハラ
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-163805
公開番号（公開出願番号）：特開2005-320221
出願日： 2004年05月06日
公開日（公表日）： 2005年11月17日
要約：

【課題】 従来の、窒素ガスの製造に関しては、PSA方式の場合、装置が大形となり、電磁弁等の装置のメンテナンスに難点があり、膜分離方式の場合、窒素ガス純度は95〜99.9%程度となるため、高純度のニーズには適せず、深冷分離方式の場合、99.999%以上の高純度の窒素ガスが得られるが、大規模な設備が必要であった。【解決手段】 純度の高い窒素ガスを作り出す窒素ガスの製造装置に於いて、酸素富化ガス301、305を排除し圧縮空気より酸素ガスを不純物として含んでいる窒素ガスを中心とする気体を作り出す窒素ガス製造装置20、90と、酸素ガスを不純物として含んでいる窒素ガスを中心とする気体にその気体より圧力の高い水素ガスを送り込み混合ガスを作り出す流量調整弁32を付設した水素ガス発生装置30と、混合ガスの酸素ガスを不純物として含んでいる窒素ガスを中心とする気体に含まれている酸素ガスと水素ガスから水を作り出す反応を促進させる触媒槽40と、発生した水蒸気を冷却する冷却装置50を配設したものである。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

純度の高い窒素ガスを作り出す窒素ガスの製造方法に於いて、酸素ガスを不純物として含んでいる窒素ガスを中心とする気体または圧縮空気に、水素ガスを添加して混合ガスとし、前記混合ガスを触媒(41)に接触させることによって前記水素ガスと前記酸素ガスを不純物として含んでいる窒素ガスを中心とする気体または前記圧縮空気に含まれている酸素ガスを反応させ水を作り出すことで前記酸素ガスを不純物として含んでいる窒素ガスを中心とする気体または前記圧縮空気の中に含まれた前記酸素ガスの含有を0%または0%に近い比較的純度の高い窒素ガスにしたことを特徴とする窒素ガスの製造方法。

IPC (3件)：

C01B21/04 ,  B01D53/04 ,  B01D53/22

FI (5件)：

C01B21/04 T ,  C01B21/04 D ,  C01B21/04 N ,  B01D53/04 B ,  B01D53/22

Fターム (20件)：

4D006GA41 ,  4D006HA01 ,  4D006KA31 ,  4D006KB30 ,  4D006KE13P ,  4D006MA01 ,  4D006MB04 ,  4D006MC22 ,  4D006MC23 ,  4D006MC48 ,  4D006PB17 ,  4D006PB62 ,  4D006PB63 ,  4D006PB65 ,  4D012BA03 ,  4D012CA06 ,  4D012CB16 ,  4D012CD07 ,  4D012CE01 ,  4D012CH08