特許

J-GLOBAL ID：200903078999012706

インクジェットヘッド及びその製造方法

発明者： 四谷 真一 ,  紙透 真一 ,  村井 正己
出願人/特許権者： セイコーエプソン株式会社
代理人 (1件)： 鈴木 喜三郎 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-115841
公開番号（公開出願番号）：特開平5-309835
出願日： 1992年05月08日
公開日（公表日）： 1993年11月22日
要約：

【要約】【目的】 非常に高密度で高精度なインクジェットヘッドをシリコン基板を用いて簡単に大量に製造する方法を提供する。【構成】 (110)面方位のシリコンウェハー上にパターニングし、その特定の位置に孔明け加工を施して、その後に湿式結晶異方性エッチングを行う事によりウェハー表面に対して直角な(111)面で構成されたインクノズル孔とインク圧力室を一体成形で形成されたインクジェットヘッド。【効果】 非常に高密度かつ高精度なインクジェットヘッドが大量にかつ容易に製造できる。

請求項（抜粋）：

インクを噴射するインクノズル孔と該インクノズル孔に連通するインク圧力室と該インク圧力室の外側及び内側に配置された駆動素子を備えたインクジェットヘッドにおいて、表面が(110)面方位であるSi単結晶基板で3つ以上の側壁の結晶面がウェハー表面に対して直角に出現する(111)面であり、残り1面の側壁の結晶面がウェハー表面に対して35度の傾斜を持って出現する(111)面により構成されていることを特徴とするインクジェットヘッド。

IPC (3件)：

B41J 2/045 ,  B41J 2/055 ,  B41J 2/16

FI (2件)：

B41J 3/04 103 A ,  B41J 3/04 103 H