特許
J-GLOBAL ID：200903079001377150
乾燥処理装置及び乾燥処理方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
中本 菊彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-195460
公開番号（公開出願番号）：特開平10-022259
出願日： 1996年07月05日
公開日（公表日）： 1998年01月23日
要約：
【要約】【課題】 被処理体と乾燥ガスの接触により被処理体の乾燥を行うに際して、乾燥ガスの発生量及び濃度を制御可能にすること。【解決手段】 半導体ウエハWを収容する処理室12と、溶剤であるIPA2を加熱して乾燥ガスを生成する乾燥ガス生成器20と、この乾燥ガス生成器20に供給されるIPA2を収容するIPAタンク26と、乾燥ガス生成器20で生成されるIPAガス3を処理室12内に供給すべく乾燥ガス生成器20に供給されるN2ガス供給源27とで主要部を構成し、乾燥ガス生成器20とIPAタンク26とを接続するIPA供給管路25に、IPA2の流量調整手段としての定量電動モータ駆動式べローズポンプ28を介設して、IPAガス3の発生量及び濃度を制御可能にする。
請求項（抜粋）：
被処理体を収容する処理室を有する処理部と、溶剤を乾燥用ガスに生成する乾燥ガス生成手段と、この乾燥ガス生成手段に供給される溶剤の供給手段と、上記乾燥ガス生成手段で生成される乾燥ガスを上記処理室内に供給すべく乾燥ガス生成手段に供給される不活性ガスの供給手段とを具備し、 上記乾燥ガス生成手段と溶剤の供給手段とを接続する供給管路に、溶剤の流量調整手段を介設してなる、ことを特徴とする乾燥処理装置。
IPC (2件)：
H01L 21/304 361
, H01L 21/304
H01L 21/304 361 V
, H01L 21/304 361 H
