特許

J-GLOBAL ID：200903079008555177

ポリヒドロキシベンゾフェノン類の製造法

発明者： 小山慎一 ,  堀川泰彦 ,  木村 修
出願人/特許権者： 田岡化学工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-352502
公開番号（公開出願番号）：特開平6-172253
出願日： 1992年12月09日
公開日（公表日）： 1994年06月21日
要約：

【要約】【目的】 ポリヒドロキシベンゾフェノン類の製造法の改良に関する。【構成】 フェノール類とカルボン酸類を反応させて一般式(3)【化1】(式中、R1 、R2 、R3 、R4 、R5 およびR6 は、それぞれ独立に水素原子、ヒドロキシル基、アルコキシル基、アルキル基、アリル基またはハロゲン原子を示す。ただし、ヒドロキシル基のo-位の内の少なくとも一つは、水素原子であるものとする。)で示されるポリヒドロキシベンゾフェノン類を製造する方法において、触媒の存在下又は不存在下、反応溶媒として、アルキルまたはアリルホスフィンオキサイド類あるいはアルキルまたはアリルホスフィンサルファイド類を用いることを特徴とするポリヒドロキシベンゾフェノン類の製造法。【効果】 本発明によれば、目的とするポリヒドロキシベンゾフェノンを、高純度、高収率で、工業的に有利に製造することができる。

請求項（抜粋）：

一般式(1)【化1】(式中、R1 、R2 およびR3 は、それぞれ独立に水素原子、ヒドロキシル基、アルコキシル基、アルキル基、アリル基またはハロゲン原子を示す。ただし、ヒドロキシル基のo-位の内の少なくとも一つは、水素原子であるものとする。)で表されるフェノ-ル類と、一般式(2)【化2】(式中、R4 、R5 およびR6 は、それぞれ独立に水素原子、ヒドロキシル基、アルコキシル基、アルキル基、アリル基またはハロゲン原子を示す。)で表される芳香族カルボン酸類とを反応させて、一般式(3)【化3】(式中、R1 、R2 、R3 、R4 、R5 およびR6 は、前記と同じ意味を有する。)で表されるポリヒドロキシベンゾフェノン類を製造する方法において、触媒の存在下又は不存在下、反応溶媒として、一般式(4)【化4】(式中、R7 、R8 およびR9 は、それぞれ独立にアルキル基またはアリル基を示し、Xは、酸素原子または硫黄原子を示す。)で表されるアルキルまたはアリルホスフィンオキサイド類あるいはアルキルまたはアリルホスフィンサルファイド類を用いることを特徴とするポリヒドロキシベンゾフェノン類の製造法。

IPC (5件)：

C07C 49/83 ,  B01J 27/08 ,  C07C 45/46 ,  C07C 49/84 ,  C07B 61/00 300