特許
J-GLOBAL ID：200903079020834200
欠陥検査装置及び欠陥検査方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
佐藤 正年 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-355524
公開番号（公開出願番号）：特開平5-172547
出願日： 1991年12月24日
公開日（公表日）： 1993年07月09日
要約：
【要約】【目的】 微細な回路パターンをと異物を分離検出することができ、基板表面の欠陥を高精度に検査することのできる欠陥検査装置を提供する。【構成】 レーザ光源からの光束はレンズ3で集光されて検査点に入射する。入射光束によって検査点から発生する光は受光器2で検出される。受光器2の受光面には複数の光電変換素子が2次元に配列されており、瞳面上に形成される像を2次元の画素情報として出力する。この画素情報に基づいて画像処理が行なわれパターン回折光に対応する情報が摘出される。異物とパターンの弁別は例えばパターン回折光が存在しない部分を実効受光領域とすることにより行なわれる。
請求項（抜粋）：
表面に所定のパターンが形成された被検査物上に所定の光束を照射する光源と、前記光源からの光束を前記被検査物上の検査点に所定の開口角で集光させる集光手段と、前記入射光束と前記被検査物とを相対移動させる移動手段と、前記集光光束によって前記検査点から発生する光束を受光し、該受光光の強度に応じた信号を出力する受光手段とを有し、該受光手段からの信号に基づいて前記被検査物表面の欠陥の有無を検査する欠陥検査装置において、前記受光手段からの信号に基づいて画像処理を行なう画像処理手段と;前記画像処理された信号に基づいて前記欠陥の有無を検出する検出手段とを備え、前記受光手段は前記集光光束の開口角よりも大きい開口角を有するとともに、該受光手段の略瞳面に2次元に配列され、該瞳面の像を2次元の画素情報として出力可能な複数の光電変換素子を有することを特徴とする欠陥検査装置。
IPC (5件)：
G01B 11/30
, G01B 11/24
, G01N 21/88
, G03F 1/08
, H01L 21/66
