特許
J-GLOBAL ID：200903079026140316
電解次亜塩素酸製造用の処理原水,並びに次亜塩素酸の製造方法及び製造装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高橋 祥泰 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-212769
公開番号（公開出願番号）：特開2000-042557
出願日： 1998年07月28日
公開日（公表日）： 2000年02月15日
要約：
【要約】【課題】 高濃度の次亜塩素酸を製造することができ,また,電極の腐蝕を防止でき,且つ安全な次亜塩素酸製造用処理原水,及びこれを用いた次亜塩素酸の製造方法及び製造装置を提供する。【解決手段】 電解次亜塩素酸製造用の処理原水は,0.1〜0.3重量%のNaClと,0.002〜0.006重量%のHClとを水に溶解させてなる。この次亜塩素酸を,Irを含む電極を用いて電気分解することにより次亜塩素酸生成水が生成する。電気分解は,電流密度1〜3A/dm2で行うことが好ましい。
請求項（抜粋）：
0.1〜0.3重量%のNaClと,0.002〜0.006重量%のHClとを水に溶解させてなることを特徴とする電解次亜塩素酸製造用の処理原水。
Fターム (10件)：
4D061AA03
, 4D061AB10
, 4D061BA02
, 4D061BB01
, 4D061BB04
, 4D061BB14
, 4D061BB30
, 4D061BB31
, 4D061BD12
, 4D061BD13
