特許
J-GLOBAL ID：200903079027172874
表面欠陥検査光学系の校正方法、及び装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
平田 忠雄 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-024408
公開番号（公開出願番号）：特開平8-219999
出願日： 1995年02月13日
公開日（公表日）： 1996年08月30日
要約：
【要約】【目的】 本発明は、作業者による校正作業工数を低減すると共に、光学系の相対位置を評価する際のばらつきを無くして、校正作業の信頼性を向上させ、且つ、スリット光に対する検出位置の微妙な調整が容易に行えるようにすることを目的とする。【構成】 本発明の表面欠陥検査光学系の校正方法、及び装置は、マスターロール16に部分粗さ円環マーク36A、36Bを形成し、この部分の反射光量を測定してスリット光に対するラインセンサ18の検出位置を調整するようにし、また、表面欠陥検査光学系の検査ステージに複数の基準マーク32〜36A、36Bが表面に設けられたマスターロール16を配置し、このマスターロール18の各基準マーク32〜36A、36Bの読取画像から光学系の相対位置関係を表す特徴量を算出するようにしている。
請求項（抜粋）：
検査位置に配置されたロール部材にスリット光を照射し、前記スリット光の前記ロール部材からの反射光を受光して前記ロール部材の表面欠陥を検出する光学系の位置、及び姿勢を校正する表面欠陥検査光学系の校正方法において、前記ロール部材と同一のサイズを有し、他の領域より表面粗さが大きい帯状の円環マークを含む複数の基準マークを表面に有したマスターロールを準備し、前記マスターロールを前記検査位置に配置し、前記マスターロールに前記スリット光を照射して、前記スリット光の照射位置、及びその近傍の位置から受光して受光レベルを検出し、前記受光レベルと、前記スリット光の照射位置、前記スリット光の前記照射位置の境界位置、及び前記スリット光の前記照射位置の外部位置に応じた基準の受光レベルとを比較して、前記照射位置、前記境界位置、及び前記外部位置に対する前記光学系の位置、及び姿勢を校正することを特徴とする表面欠陥光学系の校正方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G01N 21/88 A
, G01M 11/00 T
