特許
J-GLOBAL ID：200903079028132930

原子間力顕微鏡を用いた微細加工方法

発明者：
高岡 修

高岡 修 について

, 
渡邉 直哉

渡邉 直哉 について


出願人/特許権者：
エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社

エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社 について


代理人 (1件)： 松下 義治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-068503
公開番号（公開出願番号）：特開2009-148889
出願日： 2009年03月19日
公開日（公表日）： 2009年07月09日
要約：
【課題】 原子間力顕微鏡を応用した微細加工装置の加工品質や加工精度を向上させる。【解決手段】 集束イオンビーム装置を原子間力顕微鏡を応用した微細加工装置内に組み込み、集束イオンビーム8のエッチングまたはデポジションの微細加工能力を用いて、加工用の原子間力顕微鏡探針11の加工や付着物の除去、ドリフト用のマーカの形成、垂直断面加工、加工個所の罫書き線作製、加工始点での応力集中回避のための溝掘りを行って、原子間力顕微鏡を応用した微細加工装置単体で持っていた欠点を補い、加工品質や加工精度を向上させる。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
試料ステージを傾斜することで試料に対して垂直にイオンビームを照射できる集束イオンビーム装置と、傾斜、回転機構を備えたマニピュレータ先端に設置された原子間力顕微鏡ヘッドとをチャンバー内に有し、水平位置にある前記試料ステージ上の試料を加工観察できる原子間力顕微鏡を用いて、イオンビームが試料に対して垂直に入射されるように試料ステージを傾斜して前記集束イオンビーム装置で試料にドリフト補正用の微小なパターンを形成し、試料ステージを水平位置に戻し、原子間力顕微鏡の探針直下に試料の加工所望位置が来るように試料ステージを移動させ試料加工途中に形成した前記パターンを原子間力顕微鏡の観察モードで観察してその移動量からドリフトを算出し補正して試料を加工することを特徴とする原子間力顕微鏡を用いた微細加工方法。
IPC (4件)：
B82B 3/00 ,  G01N 13/10 ,  B81C 5/00 ,  B23K 15/00
FI (6件)：
B82B3/00 ,  G01N13/10 K ,  G01N13/10 121A ,  B81C5/00 ,  B23K15/00 508 ,  B23K15/00 504B
Fターム (8件)：
3C081AA03 ,  3C081AA17 ,  3C081BA04 ,  3C081CA17 ,  3C081CA19 ,  4E066BA13 ,  4E066BD04 ,  4E066CA14
引用特許：
審査官引用 (4件)
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