特許

J-GLOBAL ID：200903079032363645

超音波洗浄方法および装置

発明者： 深澤 雄二 ,  石崎 逸郎
出願人/特許権者： 東芝マイクロエレクトロニクス株式会社 ,  株式会社東芝
代理人 (1件)： 須山 佐一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-371355
公開番号（公開出願番号）：特開2001-179196
出願日： 1999年12月27日
公開日（公表日）： 2001年07月03日
要約：

【要約】【課題】 高周波による超音波洗浄において、配線などの形成された基板を、配線を損傷することなく、塵やパーティクルを取り去ることのできる超音波洗浄方法および装置を提供すること。【解決手段】 分散媒と、この分散媒中に微粒子状に分散された液体または粘弾性物質からなる媒体中で超音波洗浄する方法および装置。

請求項（抜粋）：

分散媒と、この分散媒中に微粒子状に分散された液体または粘弾性物質からなる媒体中で超音波洗浄することを特徴とする超音波洗浄方法。

IPC (4件)：

B08B 3/12 ,  H01L 21/304 643 ,  H01L 21/304 ,  H01L 21/304 647

FI (5件)：

B08B 3/12 Z ,  H01L 21/304 643 D ,  H01L 21/304 643 A ,  H01L 21/304 647 B ,  H01L 21/304 647 A

Fターム (10件)：

3B201AA03 ,  3B201AB01 ,  3B201AB34 ,  3B201AB42 ,  3B201BB22 ,  3B201BB85 ,  3B201BB92 ,  3B201BB93 ,  3B201CB01 ,  3B201CD22

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 洗浄性能向上剤及び洗浄方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-038524   出願人：オリンパス光学工業株式会社
• 水溶性洗浄液の再生方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-258899   出願人：オリンパス光学工業株式会社