コレステリック膜およびその製造方法ならびにコレステリック膜を備えた反射素子

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：奥田誠司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-277430
公開番号（公開出願番号）：特開2003-084131
出願日： 2001年09月13日
公開日（公表日）： 2003年03月19日
要約：

【要約】【課題】コレステリック膜の簡便な製造方法を提供する。【解決手段】本発明のコレステリック膜の製造方法は、所定のピッチのらせん構造を有しているコレステリック膜の製造方法であり、(a)外部エネルギーが印加されることによって、光学活性基を生成する反応を起こす少なくとも一種の反応性基と重合反応を起こす重合性基とを含む少なくとも一種の化合物と、コレステリック液晶材料とを含むコレステリック組成物を用意する工程と、(b)コレステリック液晶材料が第1のピッチのらせん構造を形成するコレステリック組成物層を形成する工程と、(c)コレステリック組成物層に外部エネルギーを印加して、光学活性基を生成する反応と重合反応とを起こす工程と、を包含し、工程(c)において生成された光学活性基によって、コレステリック組成物層が、第1のピッチと異なる所定のピッチのらせん構造を形成する。

請求項（抜粋）：

所定のピッチのらせん構造を有しているコレステリック膜の製造方法であって、(a)外部エネルギーが印加されることによって、光学活性基を生成する反応を起こす少なくとも一種の反応性基と重合反応を起こす重合性基とを含む少なくとも一種の化合物と、コレステリック液晶材料とを含むコレステリック組成物を用意する工程と、(b)前記コレステリック液晶材料が第1のピッチのらせん構造を形成するコレステリック組成物層を形成する工程と、(c)前記コレステリック組成物層に前記外部エネルギーを印加して、前記光学活性基を生成する反応と前記重合反応とを起こす工程と、を包含し、前記工程(c)において生成された前記光学活性基によって、前記コレステリック組成物層が、前記第1のピッチと異なる前記所定のピッチのらせん構造を形成する、コレステリック膜の製造方法。

IPC (6件)：

G02B 5/30 , C08F 2/44 , C08F289/00 , G02B 5/20 , G02B 5/20 101 , G02F 1/13 500

FI (6件)：

G02B 5/30 , C08F 2/44 C , C08F289/00 , G02B 5/20 , G02B 5/20 101 , G02F 1/13 500

Fターム (30件)：

2H048BA04 , 2H048BA43 , 2H048BA64 , 2H048BB02 , 2H048BB07 , 2H049BA05 , 2H049BA18 , 2H049BA42 , 2H049BA43 , 2H049BB05 , 2H049BC05 , 2H049BC22 , 4J011PA69 , 4J011PA88 , 4J011PC08 , 4J011QA03 , 4J011QA12 , 4J011QA15 , 4J011QA33 , 4J011QA46 , 4J011RA14 , 4J011UA01 , 4J011VA01 , 4J011WA01 , 4J026AC36 , 4J026BA27 , 4J026BA36 , 4J026DB36 , 4J026FA05 , 4J026GA06

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