特許

J-GLOBAL ID：200903079038625218

散乱測定を用いてマスクルールを求めるための方法および装置

発明者： シンフイ ニウ ,  ニクヒル ハルシャバーダン ジャカダー
出願人/特許権者： タンバー テクノロジーズ,インコーポレイティド
代理人 (1件)： 石田 敬 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-019850
公開番号（公開出願番号）：特開2002-311564
出願日： 2002年01月29日
公開日（公表日）： 2002年10月23日
要約：

【要約】【課題】 フォトリソグラフィのための光学マスク補正を求めるための方法および装置を提供すること。【解決手段】 少なくとも1つの格子を有するフォトマスクを利用して、ウェハー上に複数の格子パターンがプリントされる。複数の格子パターン内のそれぞれの格子パターンが既知のフォトリソグラフィック設定値と関連させられている。各格子パターンは光が各格子パターンから回折させられるように光源で個別に照射される。回折測定値を求めるために散乱測定技術を利用して、回折光が測定される。回折測定値はプロフィール一致を確定するために、ライブラリ内の値と比較される。プロフィール一致に基づいて各格子パターンに、二次元プロフィール記述が割り当てられる。複数の格子パターンに対応するプロフィール記述から、データベースが編集される。

請求項（抜粋）：

フォトリソグラフィのための光学マスク補正を求める方法であって、A. 少なくとも1つの格子から成るマスクを利用して、ウェハー上に複数の格子パターンをプリントし、前記複数の格子パターン内の各格子パターンが、既知のフォトリソグラフィック設定値と関連づけられているステップと、B. 光が前記各格子パターンから回折させられるように、光源により前記各格子パターンを個別に照射するステップと、C. 回折測定値を求めるために、散乱測定技術を利用して、前記回折させられた光を測定するステップと、D. プロフィール一致を確定するために、前記回折測定値と、ライブラリ中の値とを比較するステップと、E. 前記プロフィール一致に基づいて、前記各格子パターンにプロフィール記述を割り当てるステップと、F. 前記複数の格子パターンに対応する前記二次元プロフィール記述のデータベースを編集するステップと、G. 前記プロフィール記述の前記データベースにアクセスすることにより、ルールがマスクのデザインおよび補正のためである前記ルールセットを生成するステップとから成り、フォトリソグラフィのための光学マスク補正を求める方法。

IPC (5件)：

G03F 1/08 ,  G01B 11/24 ,  G01N 21/21 ,  G01N 21/27 ,  H01L 21/027

FI (5件)：

G03F 1/08 A ,  G01N 21/21 Z ,  G01N 21/27 B ,  G01B 11/24 D ,  H01L 21/30 502 P

Fターム (30件)：

2F065AA56 ,  2F065BB02 ,  2F065BB18 ,  2F065CC18 ,  2F065DD03 ,  2F065DD06 ,  2F065FF41 ,  2F065FF48 ,  2F065FF49 ,  2F065FF61 ,  2F065GG03 ,  2F065GG23 ,  2F065HH10 ,  2F065JJ00 ,  2F065LL42 ,  2F065QQ21 ,  2F065QQ25 ,  2F065QQ28 ,  2F065QQ41 ,  2F065RR09 ,  2G059AA02 ,  2G059AA03 ,  2G059BB16 ,  2G059EE02 ,  2G059EE05 ,  2G059EE11 ,  2G059JJ01 ,  2G059MM01 ,  2G059MM10 ,  2H095BB01