特許
J-GLOBAL ID:200903079045206549
ベンゾオキサゾール類およびベンゾイミダゾール類の製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-029028
公開番号(公開出願番号):特開平8-217756
出願日: 1995年02月17日
公開日(公表日): 1996年08月27日
要約:
【要約】【目的】 本発明は写真感光材料用増感色素、医薬等の合成中間体として重要なベンゾオキサゾール類およびベンゾイミダゾール類を2-ニトロフェノール類および2-ニトロ-N-置換アニリン類から連続した操作によって直接、純度、収率良くかつ簡便、安価に製造する方法を提供する。【構成】 2-ニトロフェノール類および2-ニトロ-N-置換アニリン類を酸無水物の存在下、遷移金属触媒を用いて接触還元することで、水素添加還元反応とアシル化反応を同時に行い、さらに同時にあるいはその後に環化反応を連続して行うことで、容易に直接、純度、収率良くかつ簡便、安価にベンゾオキサゾール類およびベンゾイミダゾール類を製造する方法。
請求項(抜粋):
式〔I〕(式中Xは、-OHまたは-NHR1を表し、R1は水素原子またはアルキル基を表し、R2、R3、R4およびR5は水素原子または置換基を表す)で表される化合物を原料として、酸無水物〔II〕(式中R6は水素原子またはアルキル基を表す)の存在下、遷移金属触媒を用いて接触還元することで、水素添加還元反応とアシル化反応を同時に行い、これを環化反応させることで容易に式〔III〕(式中Yは、-O-または-NR1-を表し、R1およびR6は水素原子またはアルキル基を表し、R2、R3、R4およびR5は水素原子または置換基を表す)で表される含窒素複素環化合物を製造する方法。【化1】
IPC (25件):
C07D235/06
, B01J 23/44
, B01J 25/02
, C07D235/02
, C07D235/08
, C07D263/56
, C07D263/60
, C07D401/04 235
, C07D405/04 213
, C07D413/04 213
, C07D487/04 136
, C07D498/04 101
, C07D498/04 103
, C07D498/04 105
, C07B 61/00 300
, C07D401/04
, C07D213:16
, C07D235:08
, C07D405/04
, C07D263:56
, C07D487/04
, C07D233:58
, C07D498/04
, C07D263:32
, C07D317:48
FI (15件):
C07D235/06
, B01J 23/44 X
, B01J 25/02 X
, C07D235/02 D
, C07D235/08
, C07D263/56
, C07D263/60
, C07D401/04 235
, C07D405/04 213
, C07D413/04 213
, C07D487/04 136
, C07D498/04 101
, C07D498/04 103
, C07D498/04 105
, C07B 61/00 300
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