特許

J-GLOBAL ID：200903079045206549

ベンゾオキサゾール類およびベンゾイミダゾール類の製造方法

発明者： 佐藤 健 ,  秋元 聡 ,  本多 滋
出願人/特許権者： 株式会社コニカケミカル
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-029028
公開番号（公開出願番号）：特開平8-217756
出願日： 1995年02月17日
公開日（公表日）： 1996年08月27日
要約：

【要約】【目的】 本発明は写真感光材料用増感色素、医薬等の合成中間体として重要なベンゾオキサゾール類およびベンゾイミダゾール類を2-ニトロフェノール類および2-ニトロ-N-置換アニリン類から連続した操作によって直接、純度、収率良くかつ簡便、安価に製造する方法を提供する。【構成】 2-ニトロフェノール類および2-ニトロ-N-置換アニリン類を酸無水物の存在下、遷移金属触媒を用いて接触還元することで、水素添加還元反応とアシル化反応を同時に行い、さらに同時にあるいはその後に環化反応を連続して行うことで、容易に直接、純度、収率良くかつ簡便、安価にベンゾオキサゾール類およびベンゾイミダゾール類を製造する方法。

請求項（抜粋）：

式〔I〕(式中Xは、-OHまたは-NHR1を表し、R1は水素原子またはアルキル基を表し、R2、R3、R4およびR5は水素原子または置換基を表す)で表される化合物を原料として、酸無水物〔II〕(式中R6は水素原子またはアルキル基を表す)の存在下、遷移金属触媒を用いて接触還元することで、水素添加還元反応とアシル化反応を同時に行い、これを環化反応させることで容易に式〔III〕(式中Yは、-O-または-NR1-を表し、R1およびR6は水素原子またはアルキル基を表し、R2、R3、R4およびR5は水素原子または置換基を表す)で表される含窒素複素環化合物を製造する方法。【化1】

IPC (25件)：

C07D235/06 ,  B01J 23/44 ,  B01J 25/02 ,  C07D235/02 ,  C07D235/08 ,  C07D263/56 ,  C07D263/60 ,  C07D401/04 235 ,  C07D405/04 213 ,  C07D413/04 213 ,  C07D487/04 136 ,  C07D498/04 101 ,  C07D498/04 103 ,  C07D498/04 105 ,  C07B 61/00 300 ,  C07D401/04 ,  C07D213:16 ,  C07D235:08 ,  C07D405/04 ,  C07D263:56 ,  C07D487/04 ,  C07D233:58 ,  C07D498/04 ,  C07D263:32 ,  C07D317:48

FI (15件)：

C07D235/06 ,  B01J 23/44 X ,  B01J 25/02 X ,  C07D235/02 D ,  C07D235/08 ,  C07D263/56 ,  C07D263/60 ,  C07D401/04 235 ,  C07D405/04 213 ,  C07D413/04 213 ,  C07D487/04 136 ,  C07D498/04 101 ,  C07D498/04 103 ,  C07D498/04 105 ,  C07B 61/00 300