特許
J-GLOBAL ID：200903079056351630
パターン検査方法及びその装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
則近 憲佑
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-339365
公開番号（公開出願番号）：特開平6-185999
出願日： 1992年12月21日
公開日（公表日）： 1994年07月08日
要約：
【要約】【構成】 回路パターンなどを撮像して得た検査画像をその該当箇所の参照画像と比較して欠陥を検出する際、まず両画像の不一致部分をパターンの長手方向に投影処理して、次いで投影像の濃淡画像のピーク部分を除去するように参照画像上のパターン線幅を広くまたは細くし、かかる処理後の参照画像に基づいて欠陥検出を行うようにした。【効果】 形成されたパターン上の微小なずれや線幅の違いによって誤検出を行うことのない、信頼性の高いパターン検査方法を提供することができる。
請求項（抜粋）：
検査対象を撮像して2次元画像を入力して検査画像として記憶保持する検査画像生成工程と、設計データなどに基づいて前記検査対象の基準となる2次元画像を生成して参照画像として記憶保持する参照画像生成工程と、前記検査画像と前記参照画像とを比較して不一致部分を検出する画像比較工程と、検出された不一致部分を各方向に投影処理して各方向における濃淡分布に基づいて参照画像を修正する画像変換工程と、前記検査画像を前記画像変換工程で修正された参照画像と比較して欠陥の有無を検出する欠陥検出工程とを具備することを特徴とするパターン検査方法。
IPC (5件)：
G01B 11/24
, G01N 21/88
, G06F 15/62 405
, G06F 15/70 455
, G06F 15/70
