配管内液体の磁場処理装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：竹本松司 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-065565
公開番号（公開出願番号）：特開平10-244265
出願日： 1997年03月05日
公開日（公表日）： 1998年09月14日
要約：

【要約】【課題】配管内のスケールの付着を良好に防止する最適な磁場条件の制御を行い、また、配管内に付着するスケールの付着状態を推定し、スケール付着防止の評価を行う。【解決手段】配管中を流動する流体中に含まれる微粒子を測定し、この微粒子の濃度相当量からスケールの付着状態を推定し評価して、この測定値をフィードバックして磁場条件がスケールの付着を防止するのに最適な条件となるよう制御を行うものであり、配管2内に磁場を発生する磁場発生手段3と、この磁場発生手段の下流側における配管内の液体中の微粒子を測定する微粒子測定手段4と、微粒子測定手段の出力に基づいて磁場発生手段を制御する制御手段5とを備え、制御手段は、配管内の液体中の微粒子の濃度が最大となるよう磁場条件を制御する。

請求項（抜粋）：

配管内に磁場を発生する磁場発生手段と、前記磁場発生手段の下流側における配管内の液体中の微粒子を測定する微粒子測定手段と、前記微粒子測定手段の出力に基づいて磁場発生手段を制御する制御手段とを備え、前記制御手段は、配管内の液体中の微粒子の濃度が最大となるよう磁場条件を制御することを特徴とする配管内液体の磁場処理装置。

IPC (2件)：

C02F 1/48 , C02F 5/00 610

FI (2件)：

C02F 1/48 A , C02F 5/00 610 A

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