特許
J-GLOBAL ID:200903079076544108

液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-003611
公開番号(公開出願番号):特開平7-209513
出願日: 1994年01月18日
公開日(公表日): 1995年08月11日
要約:
【要約】【目的】モノクロ液晶表示パネルに備えた各液晶表示画素の光学シャッター機能をカラーフィルタパターンの形成のためのパターン露光に利用してカラーフィルタのパターンを形成することにより容易に液晶表示装置用カラーフィルタを製造することにある。【構成】モノクロ液晶表示パネルAの透明電極板A2 表面に赤(Red) の色調の顔料分散型フォトレジストを塗布してフォトレジスト層14を形成し、液晶表示画素Pcを2つ置きに光透過状態に駆動動作し、光源部Bより紫外線をフォトレジスト層に照射して光硬化部14a を形成し、未硬化部14b を現像除去することにより透明基板11上に画素形状の赤色の第1フィルタパターンR を形成し、同様にして透明基板11上に順次第2,第3フィルタパターンG,B を形成する。
請求項(抜粋):
1)モノクロ液晶表示パネルAの前面側の透明電極板A2 表面に、顔料分散型フォトレジストを塗布してフォトレジスト層14を形成する第1フォトレジスト層形成工程と、規則的に縦横に配列されたモノクロ液晶表示パネルAの全表示画素のうち少なくとも縦方向又は横方向に配列された表示画素を2つ置きに光透過状態に駆動動作する第1表示画素駆動工程と、前記モノクロ液晶表示パネルAの裏面側に配置した光源部Eにて所定量の紫外線を照射して前記光透過状態の表示画素上のフォトレジスト層14を露光硬化する第1露光硬化工程と、光透過状態にある前記表示画素の駆動を解除する第1表示画素駆動解除工程と、前記フォトレジスト層14の未硬化部分を現像除去する第1現像除去工程とによる第1フィルタパターン形成工程と、2)前記モノクロ液晶表示パネルAの前面側の透明電極板A2 表面に、顔料分散型フォトレジストを塗布してフォトレジスト層15を形成する第2フォトレジスト層形成工程と、前記第1表示画素駆動工程にて駆動動作させた表示画素以外の全表示画素のうち少なくとも縦方向又は横方向に配列された表示画素を2つ置きに光透過状態に駆動動作する第2表示画素駆動工程と、前記モノクロ液晶表示パネルAの裏面側に配置した光源部Eにて所定量の紫外線を照射して前記光透過状態の表示画素上のフォトレジスト層15を露光硬化する第2露光硬化工程と、光透過状態にある前記表示画素の駆動を解除する第2表示画素駆動解除工程と、前記フォトレジスト層14の未硬化部分を現像除去する第2現像除去工程とによる第2フィルタパターン形成工程と、3)前記モノクロ液晶表示パネルAの前面側の透明電極板A2 表面に、顔料分散型フォトレジストを塗布してフォトレジスト層14を形成する第3フォトレジスト層形成工程と、前記第1表示画素駆動工程及び第2表示画素駆動工程にて駆動動作させた表示画素以外の残りの全表示画素を光透過状態に駆動動作する第3表示画素駆動工程と、前記モノクロ液晶表示パネルAの裏面側に配置した光源部Eにて所定量の紫外線を照射して前記光透過状態の表示画素上のフォトレジスト層16を露光硬化する第3露光硬化工程と、光透過状態にある前記表示画素の駆動を解除する第3表示画素駆動解除工程と、前記フォトレジスト層16の未硬化部分を現像除去する第3現像除去工程とによる第3フィルタパターン形成工程とを含むことを特徴とする液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法。
IPC (3件):
G02B 5/20 101 ,  G02B 1/04 ,  G02F 1/1335 505

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