特許

J-GLOBAL ID：200903079076580708

素子および素子転写方法

発明者： 土居 正人
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (2件)： 角田 芳末 ,  磯山 弘信
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-167793
公開番号（公開出願番号）：特開2005-347647
出願日： 2004年06月04日
公開日（公表日）： 2005年12月15日
要約：

【課題】 レーザーアブレーション技術を用いて基板上に配列された素子を選択的に剥離する際に、効率良くエネルギーを伝達して素子の転写を行うことが可能な素子および素子転写方法を提供する。【解決手段】 転写基板上に素子を配列して任意の素子に対してレーザー光を照射することで、転写基板から素子を剥離するレーザーアブレーション技術において、照射されるレーザー光の投影形状と転写基板上に配列される素子の形状とを相似させる。レーザー光の投影形状と素子の形状が相似であることによって、レーザー光が伝達するエネルギーを素子と転写基板との界面に対して効率良く伝達することが出来る。また、レーザー光をレンズなどの光学部材で屈折させると、回折の影響でレーザー光の投影形状の角部が不鮮明となる可能性があるため、レーザー光の投影形状は略円形状であることが望ましく、素子の形状も略円柱形状であることが望ましい。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

転写基板上に配設されレーザー光の照射によって前記転写基板から剥離される素子であって、 前記転写基板に投影される前記レーザー光の形状と当該素子の前記転写基板に接触する面の形状とが実質的に相似であることを特徴とする素子。

IPC (1件)：

H01L33/00

FI (1件)：

H01L33/00 N

Fターム (8件)：

5F041DA01 ,  5F041DA04 ,  5F041DA13 ,  5F041DA14 ,  5F041DA35 ,  5F041DA82 ,  5F041DA91 ,  5F041DB08

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 素子の転写方法及びこれを用いた素子の配列方法、画像表示装置の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-270218   出願人：ソニー株式会社