特許

J-GLOBAL ID：200903079100554527

放射線像変換スクリーン及び放射線像変換スクリーン保護膜形成用組成物

発明者： 沢井 毅 ,  小林 博 ,  石川 文矢 ,  鈴木 秀雄 ,  秋和 武志
出願人/特許権者： 三菱化学株式会社 ,  化成オプトニクス株式会社
代理人 (1件)： 長谷川 曉司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-007039
公開番号（公開出願番号）：特開平9-197097
出願日： 1996年01月19日
公開日（公表日）： 1997年07月31日
要約：

【要約】【課題】 保護層を有していて耐久性に優れ、かつ表面硬度、柔軟性及びフィルム滑り性に優れた像変換スクリーンを得る。【解決手段】 支持体上に、少なくとも蛍光体層及び保護膜を有する放射線像変換スクリーンにおいて、該保護膜が、テトラメトキシシランに水を添加し熟成して加水分解縮合反応させてなる熟成物と、該熟成物中のテトラメトキシシランの加水分解縮合物と縮合反応し得る官能基を2以上有する反応性有機化合物とを配合してなる液状組成物を塗布、乾燥して得られるものであることを特徴とする放射線像変換スクリーン。

請求項（抜粋）：

支持体上に、少なくとも蛍光体層及び保護膜を有する放射線像変換スクリーンにおいて、該保護膜が、テトラメトキシシランに水を添加し熟成して加水分解縮合反応させてなる熟成物と、該熟成物中のテトラメトキシシランの加水分解縮合物と縮合反応し得る官能基を2以上有する反応性有機化合物とを配合してなる液状組成物を塗布、乾燥して得られるものであることを特徴とする放射線像変換スクリーン。