特許

J-GLOBAL ID：200903079107807110

荷電ビーム露光における位置決め方法および線幅測定方法

発明者： 小池 薫 ,  守屋 茂
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 船橋 國則
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-044906
公開番号（公開出願番号）：特開平11-243047
出願日： 1998年02月26日
公開日（公表日）： 1999年09月07日
要約：

【要約】【課題】 電子線で接続精度測定用パターンを走査して位置検出を行う場合、大面積、太い線幅、高段差等を有する専用パターンを必要とするため、描画のスループットが低下し、かつ接続精度の正確な測定が困難になっていた。【解決手段】 設計段階では一続きとなるパターンを異なる時間に複数のパターンとして基板上に転写する荷電ビーム露光における位置決め方法において、複数のパターンとして転写されたパターン間の接続精度を、転写された複数のパターンと、設計段階で予め接続部をずらしたパターンに基づいて形成される転写パターンとの画像比較または寸法比較により測定する。

請求項（抜粋）：

設計段階では一続きとなるパターンを異なる時間に複数のパターンとして基板上に転写する荷電ビーム露光における位置決め方法において、前記複数のパターンとして転写されたパターン間の接続精度を、前記転写された複数のパターンと、設計段階で予め接続部をずらしたパターンに基づいて形成される転写パターンとの画像比較により測定することを特徴とする荷電ビーム露光における位置決め方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G01B 11/02 ,  G03F 7/20 504

FI (3件)：

H01L 21/30 541 K ,  G01B 11/02 Z ,  G03F 7/20 504