特許

J-GLOBAL ID：200903079108859645

ポリオルガノシロキサンの連続的製造方法

発明者： ザビーネ ホフマン ,  クラウス ケプラー
出願人/特許権者： ワツカー-ケミー ゲゼルシヤフト ミツト ベシユレンクテル ハフツング
代理人 (1件)： 矢野 敏雄 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-374407
公開番号（公開出願番号）：特開平11-255898
出願日： 1998年12月28日
公開日（公表日）： 1999年09月21日
要約：

【要約】【課題】 ポリオルガノシロキサンの連続的製造方法を提供する。【解決手段】 (a)第一工程で、一般式:RxSi(OR1)4-x (I)のアルコキシシラン少なくとも1種を、塩化水素および/または少なくとも1個のSiCl基を有する化合物の存在下ならびに水と不混和性の溶剤の存在下で、均質相中でアルコキシ基1個あたり水0.25〜0.40モルと反応させ、得られた反応生成物を、(b)第二工程で、塩化水素および/または少なくとも1個のSiCl基を有する化合物の存在下で、ならびに水と不混和性の別の溶剤を添加しながら不均質相中で、一般式(I)のアルコキシシランに対してアルコキシ基1個あたり水0.25〜1.50モルと反応させ、かつ得られた生成物を、(c)第三工程で水で集中的に洗浄し、かつ引き続き水-アルコール相を分離する。【効果】 狭い分子量分布および高分子割合が低い生成物が得られる。

請求項（抜粋）：

ポリオルガノシロキサンの連続的製造方法において、(a)第一工程で、一般式:RxSi(OR1)4-x (I)[式中Rは、互いに無関係に1〜4個の炭素原子を有する置換および/または非置換の飽和炭化水素基および/または不飽和炭化水素基または水素を表し、ただし水素の場合、ケイ素1個あたり水素1個のみが結合しており、ならびにR1は互いに無関係に1〜4個の炭素原子を有する飽和炭化水素基を表し、かつxは0〜3の値であり、および/またはその部分水解物を表す]のアルコキシシラン少なくとも1種を、塩化水素および/または少なくとも1個のSiCl基を有する化合物の存在下ならびに水と不混和性の溶剤の存在下で、均質相中でアルコキシ基1個あたり水0.25〜0.40モルと反応させ、得られた反応生成物を、(b)第二工程で、塩化水素および/または少なくとも1個のSiCl基を有する化合物の存在下で、ならびに水と不混和性の別の溶剤を添加しながら不均質相中で、一般式(I)のアルコキシシランに対してアルコキシ基1個あたり水0.25〜1.50モルと反応させ、かつ得られた生成物を、(c)第三工程で水で集中的に洗浄し、かつ引き続き水-アルコール相を分離することを特徴とする、ポリオルガノシロキサンの連続的製造方法。

IPC (3件)：

C08G 77/06 ,  C08G 77/08 ,  C08G 77/34

FI (3件)：

C08G 77/06 ,  C08G 77/08 ,  C08G 77/34