特許
J-GLOBAL ID:200903079112586564

薄膜積層体、薄膜電池、コンデンサ、及び薄膜積層体の製造方法と製造装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 特許業務法人池内・佐藤アンドパートナーズ
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-086798
公開番号(公開出願番号):特開2003-282142
出願日: 2002年03月26日
公開日(公表日): 2003年10月03日
要約:
【要約】【課題】 層間の接続信頼性が向上し、側面に保護層を形成したときの形成性と付着強度が向上した薄膜積層体を提供する。【解決手段】 少なくとも第1薄膜層と第2薄膜層とからなる積層単位を少なくとも2回以上繰り返して積層してなる薄膜積層体であって、前記第1薄膜層及び前記第2薄膜層のうちの少なくとも一方の積層面積を、下層から上層に向かって逓減させる。
請求項(抜粋):
少なくとも第1薄膜層と第2薄膜層とからなる積層単位を少なくとも2回以上繰り返して積層してなる薄膜積層体であって、前記第1薄膜層及び前記第2薄膜層のうちの少なくとも一方の積層面積が、下層から上層に向かって逓減していることを特徴とする薄膜積層体。
IPC (3件):
H01M 10/40 ,  H01G 4/30 301 ,  H01G 4/30 311
FI (3件):
H01M 10/40 B ,  H01G 4/30 301 A ,  H01G 4/30 311 F
Fターム (15件):
5E082AB03 ,  5E082BB07 ,  5E082BC14 ,  5E082BC31 ,  5E082BC32 ,  5E082EE05 ,  5E082EE23 ,  5E082FF05 ,  5E082GG10 ,  5E082LL02 ,  5E082MM22 ,  5E082MM23 ,  5H029AJ14 ,  5H029CJ22 ,  5H029HJ03

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