特許

J-GLOBAL ID：200903079112860186

位置検出方法、位置検出装置、露光方法、及び露光装置

発明者： 中島 伸一
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 立石 篤司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-071449
公開番号（公開出願番号）：特開2001-267201
出願日： 2000年03月15日
公開日（公表日）： 2001年09月28日
要約：

【要約】【課題】 物体に形成されたマーク位置を合理的かつ精度良くに検出する。【解決手段】 観察装置によって得られた観察信号に基づいて、特徴情報演算装置32が、マークの特徴的な領域に応じた波形特徴位置を求めるとともに、該波形特徴位置それぞれにおける波形特徴量を求める。そして、位置演算装置が35、マークの特徴的な領域において波形特徴位置が1つの場合、該1つの波形特徴位置をマークの特徴的な領域に応じた位置情報として求め、マークの特徴的な領域において特徴波形位置が複数の場合、波形特徴量に基づく複数の波形特徴位置の重み付け平均値を算出してマークの特徴的な領域に応じた位置情報として求める。引き続き、位置演算装置35が、マークの特徴的な位置ごとの位置情報に基づいて、マークの位置を検出する。

請求項（抜粋）：

物体に形成された、マークの位置を検出する位置検出方法であって、前記物体における前記マークの形成領域を観察する第1工程と;前記第1工程で得られた観察信号の波形から、前記マークにおける特徴的な領域それぞれに応じて、前記観察信号が特徴的な波形となる少なくとも1つの波形特徴位置と、該波形特徴位置それぞれにおける波形特徴量を求める第2工程と;前記マークの特徴的な領域において前記波形特徴位置が1つの場合には、該1つの波形特徴位置を前記マークの特徴的な領域に応じた位置情報とし、前記マークの特徴的な領域において前記特徴波形位置が複数の場合には、前記波形特徴量に基づく前記複数の波形特徴位置の重み付け平均値を前記マークの特徴的な領域に応じた位置情報として、前記位置情報に基づいて、前記マークの位置を検出する第3工程とを含む位置検出方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G01B 11/00 ,  G03F 9/00

FI (5件)：

G01B 11/00 G ,  G01B 11/00 H ,  G03F 9/00 H ,  H01L 21/30 525 E ,  H01L 21/30 525 W

Fターム (33件)：

2F065AA03 ,  2F065AA14 ,  2F065BB02 ,  2F065BB28 ,  2F065CC20 ,  2F065DD00 ,  2F065FF01 ,  2F065FF51 ,  2F065GG02 ,  2F065GG03 ,  2F065GG04 ,  2F065HH13 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL20 ,  2F065LL24 ,  2F065PP12 ,  2F065QQ13 ,  2F065QQ25 ,  2F065QQ32 ,  2F065QQ36 ,  2F065QQ38 ,  2F065TT02 ,  2F065UU05 ,  2F065UU07 ,  5F046BA03 ,  5F046DB05 ,  5F046DB10 ,  5F046EA03 ,  5F046EA07 ,  5F046EA09 ,  5F046FC04 ,  5F046FC06