特許

J-GLOBAL ID：200903079113666430

洗浄組成物

発明者： 秋本 佳伸 ,  小尾 邦寿 ,  富谷 学 ,  阿部 一夫
出願人/特許権者： オリンパス光学工業株式会社
代理人 (1件)： 奈良 武
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-010224
公開番号（公開出願番号）：特開平9-194892
出願日： 1996年01月24日
公開日（公表日）： 1997年07月29日
要約：

【要約】【課題】 有機溶剤や塩素系洗浄剤と同等の洗浄力で印刷インキ類を除去する。【解決手段】 グリコールエーテル、グリコールエーテルアセテート、グリコールジアセテート、二塩基酸エステル、N-メチルピロリドン、グリセリンエーテル、炭酸エステル、ベンジルアルコール、リン酸エステル、ジメチルスルホキシド、乳酸エステル及び水から選ばれた化合物によって洗浄組成物として、印刷インキ類を洗浄する。

請求項（抜粋）：

以下に記載される成分(A),(B)を必須成分とし、成分(A)および(B)の割合は(A)/{(A)+(B)}≧0.5であることを特徴とする洗浄組成物。成分(A)以下の化合物(a)、(b)、(c)、(d)、(e)の中から選ばれる少なくとも1種類以上の化合物。化合物(a) R1 O(CH2 CHR2 O)n R3 で示されるグリコールエーテル(式中、R1 、R3 は水素またはアルキル基またはフェニル基で、R1 とR3 がどちらも水素基となることはなく、R2 はメチル基または水素、nは1〜4の整数である)化合物(b) CH3 COO(CH2 CHR1 O)n R2 で示されるグリコールエーテルアセテート(式中、R1 はメチル基または水素、R2 はアルキル基またはフェニル基、nは1〜4の整数である)化合物(c) CH3 COO(CH2 CHR1 O)n COCH3 で示されるグリコールジアセテート(式中、R1 はメチル基または水素、nは1〜4の整数)化合物(d) 3-メチル-3-メトキシ-1-ブタノール化合物(e) 3-メチル-3-メトキシ-1-ブチルアセテート成分(B)以下の化合物(f)、(k)、(g)、(h)、(l)の中から選ばれる少なくとも1種類以上の化合物。化合物(f) R1 OOC(CH2 )n COOR2 で示される二塩基酸エステル(式中、R1 、R2 はアルキル基またはフェニル基、nは0〜5の整数である)化合物(k) N-メチルピロリドン化合物(g) R1 OCH2 CHOR2 CH2 OR3 で示されるグリセリンエーテル(式中、R1 、R2 、R3 は水素またはアルキル基またはフェニル基で、R1 、R2 、R3 がすべて水素となることはない)(式中、R1 、R2 はアルキル基またはフェニル基)化合物(l) ベンジルアルコール

IPC (5件)：

C11D 7/50 ZAB ,  C11D 7/26 ,  C11D 7/32 ,  C11D 7/34 ,  C11D 7/36

FI (5件)：

C11D 7/50 ZAB ,  C11D 7/26 ,  C11D 7/32 ,  C11D 7/34 ,  C11D 7/36