特許

J-GLOBAL ID：200903079122179045

微細加工ミラーの改良型光レフレクタ

発明者： ドレイク ジョセフ ディー ,  ジャーマン ジョン エイチ
出願人/特許権者： シーゲイト テクノロジィ リミテッド ライアビリティ カンパニー
代理人 (1件)： 中村 稔 (外9名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-604256
公開番号（公開出願番号）：特表2002-539472
出願日： 2000年03月08日
公開日（公表日）： 2002年11月19日
要約：

【要約】平らな基材(146)及び平らな基材に固定された反射層(147)を有する微細加工レフレクタ。反射層は、応力を有している。追加の材料層(148)が、反射層に固定されている。追加の層は、反射層の応力に実質的に対抗する応力を有している。追加の層の応力は、反射層の応力を実質的に相殺して微細加工レフレクタの平面性を高める。

請求項（抜粋）：

微細加工レフレクタであって、平らな基材と、反射層と、反射層を平らな基材に固定する手段とを有し、反射層及び反射層を平らな基材に固定する手段は、総応力を有し、前記レフレクタは、反射層に固定された材料の追加の材料層をさらに有し、追加の材料層は、反射層と反射層を平らな基材に固定する手段の総応力に実質的に対抗する応力を有し、追加の材料層の応力は、反射層及び反射層を平らな基材に固定する手段の総応力を実質的に相殺して微細加工レフレクタの平面性を高めていることを特徴とする微細加工レフレクタ。

IPC (2件)：

G02B 26/08 ,  G02B 5/08

FI (2件)：

G02B 26/08 E ,  G02B 5/08 A

Fターム (9件)：

2H041AA12 ,  2H041AB14 ,  2H041AZ00 ,  2H041AZ08 ,  2H042DA02 ,  2H042DA03 ,  2H042DA08 ,  2H042DA12 ,  2H042DA17

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 表面高反射鏡
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-349304   出願人：旭光学工業株式会社
• 特開平2-287301
  
• 特開平2-297501
  
• 特開平2-127601