特許

J-GLOBAL ID：200903079123163738

電子線又はX線用ネガ型レジスト組成物

発明者： 青合 利明
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 小栗 昌平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-233120
公開番号（公開出願番号）：特開2002-049149
出願日： 2000年08月01日
公開日（公表日）： 2002年02月15日
要約：

【要約】【課題】 電子線又はX線を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、電子線又はX線の使用に対して感度と解像度、レジスト形状、現像欠陥、塗布性及び溶剤溶解性の特性を満足する電子線又はX線用ネガ型化学増幅系レジスト組成物を提供すること。【解決手段】 電子線又はX線の照射により、酸及び/又はラジカル種を発生する化合物、アルカリ可溶性樹脂、酸により架橋する架橋剤、特定のモノマー及び溶剤を含有する電子線又はX線用ネガ型化学増幅系レジスト組成物。

請求項（抜粋）：

(A)電子線又はX線の照射により、酸及び/又はラジカル種を発生する化合物、(B)水不溶でアルカリ水溶液に可溶な樹脂、(C)酸の作用により(B)の樹脂と架橋を生じる架橋剤、(D)酸及び/又はラジカルにより重合可能な不飽和結合を少なくとも1個有する化合物、(E)下記(a)の溶剤を全溶剤に対して40〜90重量%含有し、(b)の溶剤を全溶剤に対し10〜60重量%含有する溶剤(a)プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルプロピオネート、3-メトキシプロピオン酸メチル、3-メトキシプロピオン酸エチル、3-エトキシプロピオン酸メチル、3-エトキシプロピオン酸エチルから選択される少なくとも1種の溶剤(b)プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、乳酸メチル、乳酸エチル、ジアセトンアルコールから選択される少なくとも1種の溶剤を含有することを特徴とする電子線又はX線用ネガ型レジスト組成物。

IPC (7件)：

G03F 7/038 601 ,  C08K 5/00 ,  C08L101/12 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/027 ,  H01L 21/027

FI (7件)：

G03F 7/038 601 ,  C08K 5/00 ,  C08L101/12 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 A ,  G03F 7/027 ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (27件)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AD01 ,  2H025BE00 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BF15 ,  2H025CC03 ,  2H025CC17 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17 ,  4J002AA001 ,  4J002CC031 ,  4J002EA048 ,  4J002ED029 ,  4J002EH009 ,  4J002EH078 ,  4J002EJ067 ,  4J002EV236 ,  4J002EV296 ,  4J002FD147 ,  4J002FD206 ,  4J002FD209 ,  4J002GP03