特許

J-GLOBAL ID：200903079146135081

大気圧プラズマ装置、大気圧プラズマ処理方法及びデバイス並びにデバイス製造方法

発明者： 森 義明
出願人/特許権者： セイコーエプソン株式会社
代理人 (1件)： 村上 友一 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-072873
公開番号（公開出願番号）：特開2003-273084
出願日： 2002年03月15日
公開日（公表日）： 2003年09月26日
要約：

【要約】【課題】 大気圧プラズマ装置において、高周波回路における高周波インピーダンスの変動を防止することによって、プラズマの変動を防ぐ。【解決手段】 被処理物2が配置される接地した下部電極であるステージ1と、このステージ1の上方に放電空間3を介して配置した上部電極である高周波電極4と、この高周波電極4にマッチング回路5を介して接続され、高周波電極4に高周波電力を供給する高周波電源6と、高周波電極4とマルチング回路5とをー体に、ステージ1の面に沿って移動させるようにしたアクチュエータ7とを有する。

請求項（抜粋）：

下部電極と、被処理物を収容可能な空間を有する誘電体と、前記下部電極の上方に前記誘導体を介して配置された上部電極と、前記上部電極にマッチング回路を介して接続され前記上部電極に高周波電力を供給する高周波電源と、前記上部電極と前記マッチング回路とを前記下部電極の面に沿って移動させるアクチュエータと、を有することを特徴とする大気圧プラズマ装置。

IPC (2件)：

H01L 21/3065 ,  H05H 1/24

FI (2件)：

H05H 1/24 ,  H01L 21/302 101 E

Fターム (5件)：

5F004BA04 ,  5F004BA07 ,  5F004BB13 ,  5F004BB18 ,  5F004DA01