特許

J-GLOBAL ID：200903079146192123

投影露光装置および方法

発明者： 久保 博義
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 伊東 哲也 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-106054
公開番号（公開出願番号）：特開2001-291654
出願日： 2000年04月07日
公開日（公表日）： 2001年10月19日
要約：

【要約】【課題】 二光束干渉露光と通常露光など、方式の異なる複数の露光を短時間で実行可能にする。【解決手段】 同一定盤上に、二光束干渉露光に代表される周期パターン露光と周期パターン露光を含まない通常パターン露光の2つの露光を独立可能とする投影レンズを2本設け、さらに、各露光用のマスクを各々設けて、各露光をウエハ単位で露光処理し、短時間にウエハ交換する。

請求項（抜粋）：

1つの定盤に、光学性能の異なる2以上の投影光学系を搭載したことを特徴とする投影露光装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/08 ,  G03F 7/20 521

FI (5件)：

G03F 1/08 D ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 514 A ,  H01L 21/30 515 D ,  H01L 21/30 516 B

Fターム (23件)：

2H095BA07 ,  2H095BB02 ,  5F046AA13 ,  5F046AA23 ,  5F046AA25 ,  5F046BA04 ,  5F046BA05 ,  5F046BA08 ,  5F046CA04 ,  5F046CB05 ,  5F046CB12 ,  5F046CB17 ,  5F046CB20 ,  5F046CB23 ,  5F046CB25 ,  5F046CC01 ,  5F046CC02 ,  5F046CC04 ,  5F046CC20 ,  5F046CD01 ,  5F046CD06 ,  5F046DA02 ,  5F046DA07