特許
J-GLOBAL ID：200903079152872977
X線露光用マスク及びその製法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
田中 正治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-183470
公開番号（公開出願番号）：特開平5-013310
出願日： 1991年06月28日
公開日（公表日）： 1993年01月22日
要約：
【要約】【目的】 X線透過膜上にパタ-ン化されたX線吸収体層が形成されている構成を有するX線露光用マスクにおいて、X線吸収体層に0.2μmというような小さな寸法の窓が形成されていても、またX線吸収体層が0.2μmというような狭い幅を有していても、試料上の実効露光コントラスト及び試料に対する露光マ-ジンが高く得られ且つかぶりが生じないようにする。【構成】 上記X線露光用マスクにおいて、X線吸収体層の、側面から、1.2×(G・λ)1/2 (ただし、λは用いるX線のピ-ク波長、GはX線によって露光される試料との間の間隔)で与えられる長さLq よりも短いLだけとった側縁部が、他部に比し薄い厚さを有する。
請求項（抜粋）：
X線透過膜上に、パタ-ン化されたX線吸収体層が形成されている構成を有するX線露光用マスクにおいて、上記X線吸収体層が、側縁部において、他部とは異なる厚さを有することを特徴とするX線露光用マスク。
IPC (2件)：
引用特許：
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