特許
J-GLOBAL ID：200903079176676362

洗剤組成物

発明者：
小林 秀樹

小林 秀樹 について

, 
近藤 秀俊

近藤 秀俊 について


出願人/特許権者：
東レ・ダウコーニング・シリコーン株式会社

東レ・ダウコーニング・シリコーン株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-353801
公開番号（公開出願番号）：特開平7-197086
出願日： 1993年12月29日
公開日（公表日）： 1995年08月01日
要約：
【要約】【目的】 洗浄性を損なうことなく、洗浄後のすすぎ洗いにおける泡立ちを継続的に抑制することができる洗剤組成物を提供する。【構成】 (A)少なくとも1種の界面活性剤2〜90重量%、(B)少なくとも1種の洗浄力ビルダー1〜98重量%および(C)(a)一般式:【化1】で表される有機ケイ素重合体および一般式:【化2】で表されるジオルガノポリシロキサンからなる群から選択される基油(式中、R1はアルケニル基を除く一価炭化水素基であり、R2は一価炭化水素基、水素原子または水酸基であり、R3はアルキレン基であり、R4は一価炭化水素基であり、R5は炭素数2〜18の一価炭化水素基であり、mは2以上の整数であり、nは0以上の整数であり、かつm≧nである。)と(b)比表面積が少なくとも50m2/gであるシリカ微粉末{(b)成分の配合量は、(a)成分100重量部に対して、1〜50重量部の範囲である。}からなる抑泡剤0.001〜20重量%からなる洗剤組成物。
請求項（抜粋）：
(A)少なくとも1種の界面活性剤 2〜90重量%、(B)少なくとも1種の洗浄力ビルダー 1〜98重量%および(C)(a)一般式:【化1】(式中、R1はアルケニル基を除く一価炭化水素基であり、R2は一価炭化水素基、水素原子または水酸基であり、R3はアルキレン基であり、mは2以上の整数であり、nは0以上の整数であり、かつm≧nである。)で表される有機ケイ素重合体および一般式:【化2】(式中、R2は一価炭化水素基、水素原子または水酸基であり、R4は一価炭化水素基であり、R5は炭素数2〜18の一価炭化水素基であり、mは2以上の整数であり、nは0以上の整数であり、かつm≧nである。)で表されるジオルガノポリシロキサンからなる群から選択される基油と(b)比表面積が少なくとも50m2/gであるシリカ微粉末{(b)成分の配合量は、(a)成分100重量部に対して、1〜50重量部の範囲である。}からなる抑泡剤 0.001〜20重量%からなる洗剤組成物。
IPC (3件)：
C11D 3/37 ,  B01D 19/04 ,  C11D 3/38
引用特許：
審査官引用 (13件)
  • 特表平6-507188
  • 特開昭60-106508
  • 安定な制泡液体洗剤組成物
    公報種別：公表公報   出願番号：特願平6-501554   出願人：ザプロクターエンドギャンブルカンパニー
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