特許

J-GLOBAL ID：200903079200096100

ネガ型放射線感応性混合物およびそれを使用して製造された放射線感応性記録材料

発明者： ゲオルク、パウロウスキー ,  ラルフ、ダメル ,  ホルスト、レーシェルト ,  ウィンフリート、マイアー ,  ワルター、シュピース ,  クラウス-ユルゲン、プルツィビラ
出願人/特許権者： ヘキスト・アクチェンゲゼルシャフト
代理人 (1件)： 佐藤 一雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-201318
公開番号（公開出願番号）：特開平6-027669
出願日： 1992年07月28日
公開日（公表日）： 1994年02月04日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】 フォトレジストの製造、電子部品および印刷版の製造、またはケミカルミリングのために特に好適である放射線応性記録材料を提供する。【構成】 a)水素原子に結合されていない原子に結合されている少なくとも1個の-CBr3 基を含有し且つ活性放射線への露光時に強酸を生成する化合物、b)少なくとも2個の酸架橋性基を含有する化合物、およびc)水性アルカリ性溶液に可溶性または少なくとも膨潤性であり且つフェノール性OH基を含有する水不溶性高分子結合剤を含有するネガ型放射線感応性混合物。

請求項（抜粋）：

a)水素原子に結合されていない原子に結合されている少なくとも1個の-CBr<SB>3 </SB>基を含有し且つ活性放射線への露光時に強酸を生成する化合物、b)少なくとも2個の酸架橋性基を含有する化合物、およびc)水性アルカリ性溶液に可溶性または少なくとも膨潤性であり且つフェノール性OH基を含有する水不溶性高分子結合剤を含有するネガ型放射線感応性混合物であって、(1)該混合物は248nmで<0.4μm<SP>-1</SP>の吸収を有し、(2)化合物(a)のCBr<SB>3 </SB>基はスルホニル基の硫黄原子に結合されており且つ化合物(a)は成分(b)と成分(c)との合計量に対して0.2〜10重量%の量で混合物に含有され、(3)成分(b)および(c)の質量比は50:50〜5:95であり、(4)成分(c)はヒドロキシスチレンまたはその誘導体の単独重合体または共重合体(該単独重合体または共重合体は水酸化テトラメチルアンモニウム2.38重量%を含有する水性アルカリ性現像液中で21°Cにおいて200〜3,000nm/分の除去速度を有する)であることを特徴とするネガ型放射線感応性混合物。

IPC (4件)：

G03F 7/038 505 ,  G03F 7/00 501 ,  G03F 7/029 ,  H01L 21/027