特許
J-GLOBAL ID:200903079212757668
基板保持装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
土橋 皓
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-076775
公開番号(公開出願番号):特開2000-277592
出願日: 1999年03月19日
公開日(公表日): 2000年10月06日
要約:
【要約】 (修正有)【課題】 プラズマ安定性に優れ、しかも繰り返しの昇温や降温の熱負荷や高温雰囲気に長時間曝されても接合部にクラックが入らず、金属製電極板がプラズマに曝されることがなく、もって重金属汚染の虞がない基板保持装置を提供する。【解決手段】 セラミックス焼結体製の基体2と、この基体の接合面の全領域を覆うセラミックス焼結体製の被覆板3を備えるとともに、前記基体と前記被覆板との間に把持された金属製の電極板4と、この電極板に一端が接続された印加用電極5を備えた基板保持装置1であって、前記基体と前記被覆板とは接合剤により気密に接合され、その接合界面には周期表第 IIIa属元素から選ばれた少なくとも2種の元素と、アルミニウムと、珪素を含むオキシナイトライドガラス層が形成されているように構成する。
請求項(抜粋):
セラミックス焼結体製の基体と、この基体の接合面の全領域を覆うセラミックス焼結体製の被覆板を備えるとともに、前記基体と前記被覆板との間に把持された金属製の電極板と、この電極板に一端が接続された印加用電極を備えた基板保持装置であって、前記基体と前記被覆板とは接合剤により気密に接合され、その接合界面には周期表第 IIIa属元素から選ばれた少なくとも2種の元素と、アルミニウムと、珪素を含むオキシナイトライドガラス層が形成されていることを特徴とする基板保持装置。
IPC (3件):
H01L 21/68
, C04B 37/00
, H01L 21/205
FI (3件):
H01L 21/68 R
, C04B 37/00 A
, H01L 21/205
Fターム (18件):
4G026BA16
, 4G026BB16
, 4G026BF02
, 4G026BF43
, 4G026BF46
, 4G026BG02
, 4G026BG27
, 4G026BH13
, 5F031HA02
, 5F031HA16
, 5F031MA28
, 5F045BB14
, 5F045EH04
, 5F045EH08
, 5F045EK09
, 5F045EM02
, 5F045EM05
, 5F045EM09
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