特許

J-GLOBAL ID：200903079214198984

水分の検出方法および成膜装置

発明者： 高田 一広
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (2件)： 西山 恵三 ,  内尾 裕一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-338675
公開番号（公開出願番号）：特開2008-151591
出願日： 2006年12月15日
公開日（公表日）： 2008年07月03日
要約：

【課題】 成膜時にチャンバ雰囲気に全く影響を与えずにチャンバ内の水をモニターすること。【解決手段】 基板に成膜を行うためのチャンバを有した成膜装置において、該チャンバ内の水分量を検出する方法であって、 前記水分量の検出は、テラヘルツ領域の周波数を有する電磁波を前記チャンバ内に導入する工程と、前記導入した電磁波を検出する工程を含み、前記検出した電磁波の水のスペクトルピークに基づいて水分量を検出する。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

基板に成膜を行うためのチャンバを有した成膜装置において、該チャンバ内の水分量を検出する方法であって、 前記水分量の検出は、テラヘルツ領域の周波数を有する電磁波を前記チャンバ内に導入する工程と、前記導入した電磁波を検出する工程を含み、前記検出した電磁波の水のスペクトルピークに基づいて水分量を検出することを特徴とする水分の検出方法。

IPC (4件)：

G01N 21/35 ,  C23C 14/54 ,  C23C 14/12 ,  C23C 16/52

FI (4件)：

G01N21/35 A ,  C23C14/54 B ,  C23C14/12 ,  C23C16/52

Fターム (18件)：

2G059AA05 ,  2G059BB08 ,  2G059CC09 ,  2G059EE10 ,  2G059EE12 ,  2G059GG01 ,  2G059GG10 ,  2G059HH01 ,  2G059KK01 ,  4K029BA62 ,  4K029BC07 ,  4K029BD00 ,  4K029EA00 ,  4K029EA05 ,  4K030HA12 ,  4K030JA06 ,  4K030JA18 ,  4K030KA39

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 成膜装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-066741   出願人：シャープ株式会社
• 有機EL表示装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-255610   出願人：ティーディーケイ株式会社