特許

J-GLOBAL ID：200903079221911777

ガンマ線滅菌光ファイバ-、その製造方法及びUV伝送システム

発明者： ゲアリー ネルソン ,  カルル フリートリッヒ クライン
出願人/特許権者： ポリミクロ テクノロジーズ インコーポレイテッド
代理人 (1件)： 中村 稔 (外7名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-078534
公開番号（公開出願番号）：特開平11-343144
出願日： 1999年03月23日
公開日（公表日）： 1999年12月14日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】UV光伝送用のガンマ線滅菌光ファイバーを得る。【解決手段】 UV光伝送用の、ガンマ線によって滅菌可能な多モード光ファイバーは、無添加合成シリカを含有するコアと、フッ素添加合成シリカを含有するクラッドと、ファイバーから外部への水素の拡散を抑制する金属コーティングとを有し、金属は、アルミニウム、銅、亜鉛等から選択されたものである。金属コーティングは、150°C以下で高拡散係数及び250°C以上の水素充填温度で低拡散係数を有する。光ファイバーは、50〜1500ppmの高-OH含量を有し、処理後には50ppm以下の低-OH含量を有する。ガンマ線滅菌多モードファイバーバンドルは、このような複数本の光ファイバーを包含し、ガンマ線滅菌カテーテルは、少なくとも1本の光ファイバー又はファイバーバンドルを含む光伝送システム及びその伝送システムを用いた光伝送用装置についても開示する。

請求項（抜粋）：

UV光伝送用の光ファイバーであって、前記ファイバーがガンマ線で滅菌されており、多モード光ファイバーを含み、該多モード光ファイバーが、無添加又は1%未満のフッ素添加合成シリカを含んでなるコア;フッ素添加又はホウ素-フッ素添加合成シリカを含んでなるクラッド;前記光ファイバー中に、5×1019分子/cm3より多くの水素;及び、前記ファイバーから外部へ水素が拡散することを抑制するために、前記光ファイバーが、アルミニウム、銅、亜鉛、スズ、銀、及び金からなる群より選択された金属を含んでなる、150°C以下で高拡散係数、及び250°C以上の水素充填温度において低拡散係数を有するコーティングを含み、このコーティングされた光ファイバーがガンマ線で滅菌されることを特徴とする光ファイバー。

IPC (4件)：

C03C 13/04 ,  C03B 20/00 ,  G02B 6/00 ,  G02B 6/00 356

FI (4件)：

C03C 13/04 ,  C03B 20/00 F ,  G02B 6/00 356 A ,  G02B 6/00 C