特許
J-GLOBAL ID：200903079224201053
ナノ結晶性材料を合成するための装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
石田 敬 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-131739
公開番号（公開出願番号）：特開2000-024493
出願日： 1994年07月26日
公開日（公表日）： 2000年01月25日
要約：
【要約】【課題】 ナノ構造材料を製造するための改良された装置を提供すること。【解決手段】 本発明によるナノ結晶性材料を合成するための装置は、チャンバーと、非消費性カソードと、前記カソードに対してある角度で傾斜された消費性アノードと、電離アークの少なくとも一つの地点に急冷気体及び反応気体の少なくとも一方を注入して前記アークをその注入地点において消失せしめ、よってアーク末端を確立するための第一注入手段と、前記消失されたアーク末端を越えた下流の地点においてナノ結晶性エアロゾル中に冷却気体流を注入するための第二注入手段と、反応帯域の形成、前記ナノ結晶性エアロゾルの発生及びナノ結晶性材料の合成を可能ならしめるべく前記アノードと前記カソードに電力を供給するための手段とを含む。
請求項（抜粋）：
金属、半導体及びセラミックスから成る群より選ばれたナノ結晶性エアロゾルを発生させるための手段を含有するチャンバーと、前記チャンバー内に配置された非消費性カソードであって、前記カソードを化学反応から遮蔽し且つ電離アークを延長させる作用気体流を提供するための手段を有する非消費性カソードと、前記チャンバー内に配置され、前記電離アークによって気化可能な物質を提供するための、前記カソードに対してある角度で傾斜された消費性アノードと、前記電離アークの少なくとも一つの地点に急冷気体及び反応気体の少なくとも一方を注入して前記アークをその注入地点において消失せしめ、よってアーク末端を確立するための第一注入手段と、前記急冷気体及び反応気体の少なくとも一方の注入により消失されたアーク末端を越えた下流の地点において前記ナノ結晶性エアロゾル中に冷却気体流を注入するための第二注入手段と、反応帯域の形成、前記ナノ結晶性エアロゾルの発生及びナノ結晶性材料の合成を可能ならしめるべく前記アノードと前記カソードに電力を供給するための手段とを含む、ナノ結晶性材料を合成するための装置。
IPC (4件)：
B01J 19/08
, B22F 9/14
, C01B 13/20
, C01F 7/42
B01J 19/08 J
, B22F 9/14 Z
, C01B 13/20
, C01F 7/42
