特許

J-GLOBAL ID：200903079225452661

真空装置

発明者： 遠藤 誠
出願人/特許権者： 関西日本電気株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-013483
公開番号（公開出願番号）：特開平9-213679
出願日： 1996年01月30日
公開日（公表日）： 1997年08月15日
要約：

【要約】【課題】 感度が低下しないように、かつイオンエッチング装置内の塵埃を定量的に検査し、監視するパーティクルセンサを設ける。【解決手段】 真空チャンバ1と、それに第1バルブ9を介して接続したガス配管8と、真空チャンバ1に第1排気管10により第2バルブ12を介して接続した排気ポンプ11とを有する真空装置において、真空チャンバ1に穿設した吸気孔13と、吸気孔13と排気ポンプ11間を第3バルブ15を介して接続した第2排気管14と、第3バルブ15と排気ポンプ11間に配設したパーティクルセンサ16とを有することを特徴とする真空装置。

請求項（抜粋）：

真空チャンバと、それに第1バルブを介して接続したガス配管と、前記真空チャンバに第1排気管により第2バルブを介して接続した排気ポンプとを有する真空装置において、前記真空チャンバに穿設した吸気孔と、この吸気孔と前記排気ポンプ間を第3バルブを介して接続した第2排気管と、前記第3バルブと前記排気ポンプ間に配設したパーティクルセンサとを有することを特徴とする真空装置。

IPC (4件)：

H01L 21/3065 ,  C23C 16/50 ,  G01N 21/88 ,  H01L 21/205

FI (4件)：

H01L 21/302 N ,  C23C 16/50 ,  G01N 21/88 Z ,  H01L 21/205