特許
J-GLOBAL ID：200903079226099043
高分子光学材料及びこれを用いた光導波路
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
中本 宏 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-070860
公開番号（公開出願番号）：特開平10-036511
出願日： 1997年03月10日
公開日（公表日）： 1998年02月10日
要約：
【要約】【課題】 1.3μm及び1.55μm波長帯において低損失であり、かつ耐熱性、耐湿性、耐溶剤性及び耐クラック性に優れた高分子光学材料、及びそれを用いた光導波路を提供する。【解決手段】 式(I)、(II) の各単位を構成分とする一般式(化1):-(R1 )(-O1/2 )Si-O-(I)、-(R1 )(HO-)Si-O-(II)(R1 :シクロヘキシル基又はシクロペンチル基)の繰り返し単位、及び式(III)、式(IV) を構成分とする一般式(化2):-(R2 )(-O1/2 )Si-O-(III)、-(R2 )(HO-)Si-O-(IV) 〔R2 :C6 Y5 (Y:H又はD)〕の繰り返し単位からなる共重合体である高分子光学材料。該材料をコア又はクラッドとする高分子光導波路。該材料は、他の成分、特にポリイソシアネートを含んでいてもよい。
請求項（抜粋）：
式(I)、式(II)の各単位を構成分とする下記一般式(化1):【化1】(式中、R1 はシクロヘキシル基又はシクロペンチル基である)で表される繰り返し単位、及び式(III)、式(IV) の各単位を構成分とする下記一般式(化2):【化2】〔式中、R2 はC6 Y5 (Yは水素又は重水素を表す)で表されるフェニル基又は重水素化フェニル基である〕で表される繰り返し単位からなる共重合体であることを特徴とする高分子光学材料。
IPC (6件)：
C08G 77/16 NUG
, C07F 7/08
, C07F 7/21
, C08G 18/61 NEM
, G02B 1/04
, G02B 6/12
C08G 77/16 NUG
, C07F 7/08 Y
, C07F 7/21
, C08G 18/61 NEM
, G02B 1/04
, G02B 6/12 N
