特許
J-GLOBAL ID：200903079226144545
装置内外の差圧自動調整方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
石戸 元
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-187380
公開番号（公開出願番号）：特開平8-055769
出願日： 1994年08月09日
公開日（公表日）： 1996年02月27日
要約：
【要約】【目的】 半導体製造装置内の圧力を同一、もしくは所定の圧力差として、パーティクルの巻き上げを防止し、装置内を人為的に再調整することなく適正なエアフローを得る。【構成】 半導体製造装置1の内,外にそれぞれ圧力センサ2,3を設け、これらの圧力センサ2,3の圧力値により前記装置1内に設けた風量制御器4を制御し、前記装置1内,外の圧力を同一、もしくは所定の圧力差とすることを特徴とする。
請求項（抜粋）：
半導体製造装置の内,外にそれぞれ圧力センサを設け、これらの圧力センサの圧力値により前記装置内に設けた風量制御器を制御し、前記装置内,外の圧力を同一、もしくは所定の圧力差とすることを特徴とする装置内外の差圧自動調整方法。
IPC (3件)：
H01L 21/02
, G05D 16/20
, H01L 21/22 501
