含フッ素化合物、及び磁気ディスク、磁気ディスク装置

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：高田幸彦 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-374799
公開番号（公開出願番号）：特開2001-187796
出願日： 1999年12月28日
公開日（公表日）： 2001年07月10日
要約：

【要約】【課題】本発明は潤滑剤飛散低減、潤滑剤分解抑制、粘着低減を同時に達成する潤滑剤を提供する。また、前記潤滑剤を用いた磁気ディスクは高回転での長期連続回転を行った後も表面に十分な潤滑性を有し、かつヘッドとの粘着力が小さい効果を有し、信頼性の高い磁気ディスク装置を提供することにある。【解決手段】下記の一般式(1)【化1】(ただし、式中-Rは-R1または-R2であり、且つ-Rのうち1個は-R1。又-R1:-OCH2-CF2CF2-(OCF2CF2CF2)nF(nは正の整数),-R2:-OHである。)で表される含フッ素化合物及び磁気ディスク、磁気ディスク装置。

請求項（抜粋）：

下記の一般式(1)【化1】(ただし、式中-Rは-R1または-R2であり、かつ-Rのうち1個は-R1。又-R1:-OCH2-CF2CF2-(OCF2CF2CF2)nF(nは正の整数),-R2:-OHである。)で表される含フッ素化合物。

IPC (5件)：

C07F 9/659 , C10M107/38 , C10M137/16 , G11B 5/725 , C10N 40:18

FI (5件)：

C07F 9/659 , C10M107/38 , C10M137/16 , G11B 5/725 , C10N 40:18

Fターム (9件)：

4H050AB91 , 4H104BH14A , 4H104BH14C , 4H104CH09A , 4H104CH09C , 4H104LA15 , 4H104LA20 , 4H104PA16 , 5D006AA01

引用特許：

審査官引用 (3件)

特開平4-297453
磁気記録媒体
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-183605 出願人：株式会社クボタ
特開平4-297453

引用文献：

審査官引用 (1件)

Journal of Tribology, 1999, 121(2),p.348-351

前のページに戻る