特許

J-GLOBAL ID：200903079234533380

光ディスク基板の複製方法

発明者： 安齋 由美子 ,  宮村 芳徳 ,  安藤 圭吉 ,  堀籠 信吉
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-344353
公開番号（公開出願番号）：特開平5-182251
出願日： 1991年12月26日
公開日（公表日）： 1993年07月23日
要約：

【要約】【目的】光ディスク用基板の作製において量産に適した手段を提供すること。【構成】光ディスク用レプリカ基板を低酸素濃度雰囲気中で作製する。【効果】光硬化樹脂を十分に硬化させ、作業上の安全性が高く、かつ、量産効率が向上する。

請求項（抜粋）：

表面に光ヘッド案内溝およびアドレスなどを表わすピットやセクタマークあるいは記録情報などの凹凸パターンをもつスタンパ表面あるいは透明な基板の表面に液状の光硬化樹脂を滴下する工程、上記光硬化樹脂を介して上記スタンパの表面に透明な基板を密着する工程、上記透明な基板を介して上記光硬化樹脂に紫外線を照射する工程、上記スタンパと上記光硬化樹脂の界面から剥離する工程、上記剥離した光硬化樹脂を有する光ディスク基板に再び紫外線を照射する工程、からなる全工程あるいはその一部を不活性気体の雰囲気中で連続的あるいは部分的に処理することを特徴とする光ディスク基板の複製方法。